프로젝트 소개
본 과제는 20 Nano급 반도체 생산공정의 핵심 공정인 감광액 도포(photo resist coating) 효율을 개선하기 위해 완전스캔(Full-scan) 방식의 감광액 도포시스템(FPCS)을 개발하는 연구임.
연구목표는 FPCS 고난이도 공정장비 개발기술을 확보하고 수율 및 테스트 시간을 단축하는 데 있음. 핵심 연구내용은 photo resist coating용 Full-scan 도포시스템 개발과 함께 휴대폰·소형기기 고정밀 스피커용 필터섬유의 Opening/Open Area 분석, 제직설계(원사 Nylon 43㎛, PET 45㎛; 350/inch; 28㎛, Open Area 15% 목표), 전처리(텐터가공)·심색화 염색공정, 현장 적용 및 성능평가·문제점 보완을 수행하는 구조로 정리됨. 기대효과는 테스트 시간 단축, 반도체·LCD 자동화 솔루션 제공, 장비 설계·개발 기술의 지적재산권화, 첨단 검사 장비 해외의존도 재고 및 Knowhow DB화임.