[최종목표]ㅇ 유전율 100 이상의 초극박막 (5 nm 이하) 소재 및 3D DRAM 향 커패시터 집적 공정 개발 ① ALD 기반 TiO2 또는 2차원 층상구조 유전체 두께 및 조성 제어 기술 개발 ② 격자 정합성을 고려한 4종 이상의 기능성 전극 및 dangling-free 계면층 도입 및 최적화③ 극박막 영역에서 고품위 결정화를 위한 고등 ALD 공정 ...
디램 커패시터
초고유전율
극박막
계면 공학
2차원 소재
2
2025년 3월-2029년 12월
|232,850,000원
Non-noble 메탈 소재 기반 페로브스카이트 전극/유전체 어셈블리 개발
[최종목표]ㅇ DRAM 커패시터용 non-noble 메탈 기반 페로브스카이트 구조 고유전막/전극막 증착공정 기술개발[1차년도 목표]ㅇ VO2, MoO2 ALD 공정 셋업, SrVO3, SrMoO3 ALD 공정 개발, SrTiO3 ALD 공정 셋업,[2차년도 목표]ㅇ SrTiO3 박막 물성 최적화, SrVO3/SrMoO3 결정구조 확보, SrTiO3/SrVO...
디램
전극
고유전체
페로브스카이트
커패시터
3
2023년 3월-2025년 12월
|859,000,000원
차세대 하이브리드 본딩용 다층 구리 재배선 및 저저항 복합 배선 EP/ALD 융합공정 개발
차세대 하이브리드 본딩을 위한 다층 구리 재배선 기술 및 저저항 복합 배선을 위한 ALD/EP 융합공정 개발1. Ru, Mo 기반 극박막에서 낮은 비저항을 확보하기 위한 ALD 공정 기술 개발 및 배선 소재 적용을 위한 특성 확보2. 배선 소재 평탄화 및 ALD/EP 공정 적용을 위한 배선 소재의 영역선택적 증착 기술 및 원자층에칭 공정 개발3. 복합배선 ...
패키징
금속 배선
재배선
원자층증착법
도금
4
2023년 3월-2025년 12월
|1,000,000,000원
차세대 하이브리드 본딩용 다층 구리 재배선 및 저저항 복합 배선 EP/ALD 융합공정 개발
차세대 하이브리드 본딩을 위한 다층 구리 재배선 기술 및 저저항 복합 배선을 위한 ALD/EP 융합공정 개발1. Ru, Mo 기반 극박막에서 낮은 비저항을 확보하기 위한 ALD 공정 기술 개발 및 배선 소재 적용을 위한 특성 확보2. 배선 소재 평탄화 및 ALD/EP 공정 적용을 위한 배선 소재의 영역선택적 증착 기술 및 원자층에칭 공정 개발3. 복합배선 ...
패키징
금속 배선
재배선
원자층증착법
도금
5
주관|
2023년 3월-2025년 12월
|750,000,000원
차세대 하이브리드 본딩용 다층 구리 재배선 및 저저항 복합 배선 EP/ALD 융합공정 개발
o 1차년도
[1세부] : 저저항 신규 배선 소재 탐색 및 EP 소재 및 공정 개발
- ALD 기반 저저항 신규 배선 소재 탐색 및 공정 개발
: Mo, Ru 신규 전구체 테스트 및 환원제 조합에 따른 ALD 배선 공정 개발
: 비저항 및 roughness 개선을 위한 Ru 박막의 ALE 공정 확보
- EP/전해연마 용액 개발 및 seed-layer 공정 개발
: 복합 배선용 Cu EP 용액 개발 및 전해연마 용액 개발
: ALD seed-layer 형성을 위한 Ru ASD 공정 개발
- 복합배선 EP용 도금액 및 미세배선 전해연마 용액 개발
[2세부] : 이종집적 소재 data 확보 및 CMP-less 평탄화 기술 개발
- 폴리머 절연층 CMP-less 평탄화 기술 개발
: 폴리이미드(PI) 절연층 형성 공정 확립
: CMP-less 평탄화 공정 개발
- 이종 집적 주요 구성 재료의 열팽창계수, 경도, 탄성계수등 물성 data 확보
: TMA를 이용한 열팽창계수 (CTE) 측정
: 나노인덴테이션을 이용한 주요 구성 재료의 경도 및 탄성계수 측정
o 2차년도
[1세부] : ALD/EP 융합 공정을 위한 단위공정 최적화
- Advanced ALD 공정을 통한 극소비저항 박막특성 확보
: Advanced ALD를 이용한 ALD 배선 소재 극소 비저항 확보
: 극박막 표면 평탄화 기술 개발 (Mo, Ru ALE 공정 개발 포함)
- EP/전해연마 거동 연구 및 EP seed 형성 연구
: 무결함 bottom-up 충진 EP 연구 및 복합 배선에서의 EP 거동 연구
: EP ALD seed-layer 형성을 위한 Mo ASD 공정 개발
[2세부] : 다층 미세 구리배선 형성 기술 및 접합특성 연구
- 다층 미세 구리배선 형성 기술 개발
: 2㎛/2㎛ L/S 구리 배선 제조 기술 개발
: 다층 배선용 구리 via 형성 기술 개발 및 접착력 향상 기술 개발
- 이종 집적 접합부의 접합강도 분석
: 미세역학 실험법을 이용한 전도체 계면의 전단강도 측정 및 전단강도 측정
: 간이본딩 구조체의 접합강도 측정 및 파손 메커니즘 규명
o 3차년도
[1세부] : ALD/EP 융합 공정 개발을 통한 복합 구조 filling 특성 확보
- ALD/EP 융합 공정을 위한 ALD 배선 소재 최적화 및 특성확보
: ALD 배선소재 공정 최적화 및 극소 비저항 특성 확보
: Ru-Mo bi-metallic 공정 개발 및 소재 평가를 통한 가능성 제시
- ALD/EP 융합 공정을 위한 EP 공정 최적화 및 복합배선 filling
: Cu EP 공정 최적화를 위한 용액 조성 확보 및 전해연마 조건 최적화
: 공정 최적화를 통한 ALD/EP 융합 공정 적용: 복합배선 filling 특성 구현
[2세부] : 다층 미세 구리 재배선 인터포저 기술 및 이종집적 신뢰성 확보
- 다층 미세 구리 재배선 인터포저 기술 개발
: 2㎛/2㎛ L/S 구리 배선을 갖는 4층 재배선 제조 기술 개발
: release layer를 이용한 재배선 인터포저 제작 기술 개발
- 이종 집적 공정 신뢰성 분석 기술 개발
: 유한요소해석을 이용한 공정 및 구동 중 국부 응력 및 변형률 분석
: 간이본딩 구조체의 열싸이클 (-55℃ ~ 125℃) 1000회 신뢰성 평가