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과제
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Article
|
·
인용수 1
·
2025
Post-Treatment of Monolayer MoS
2
Field-Effect Transistors with H
2
O Vapor: Alleviation of Remote Channel Doping
Hee-Soo Lee
,
Byeongchan Kim
,
Minseo Jang
,
Seongdae Kwon
,
D. H. LEE
,
Su-Min Kang
,
Jin‐Hong Park
,
Kibum Kang
,
Hyoungsub Kim
IF 7.8 (2025)
ACS Applied Materials & Interfaces
초록
O PT는 공기 중에서 최소 2개월 동안 확인되었다.
*본 초록은 AI를 통해 원문을 번역한 내용입니다. 정확한 내용은 하기 원문에서 확인해주세요.
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키워드
Materials science
Monolayer
Atomic layer deposition
Passivation
Dielectric
Gate dielectric
Doping
Optoelectronics
Chemical vapor deposition
Threshold voltage
타입
Article
IF / 인용수
7.8 / 1
원문
https://doi.org/10.1021/acsami.4c17249
게재 연도
2025