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·2023
Bandgap engineered low-loss a-Si:H for efficient dielectric metasurfaces at visible frequencies
Younghwan Yang, Gwanho Yoon, Minkyung Kim, Dasol Lee, Junsuk Rho
초록

여기서는 가시 주파수에서 소광계수(extinction coefficient)가 억제되도록 밴드갭을 최적화한 저손실 수소화 비정질 실리콘(hydrogenated amorphous silicon, a-Si:H)을 소개한다. a-Si:H의 밴드갭은 플라즈마 강화 화학기상증착(plasma-enhanced chemical vapor deposition) 공정의 증착 파라미터를 조절함으로써 조작하였다. 저손실 a-Si:H는 가시 스펙트럼 전 범위에서 빔 조향(beam-steering) 메타표면에 적용되었다. 빔 조향 메타표면은 각각 450, 532, 635 nm의 파장에서 측정 효율 42%, 65%, 75%를 달성하였다.

*본 초록은 AI를 통해 원문을 번역한 내용입니다. 정확한 내용은 하기 원문에서 확인해주세요.

키워드
Materials scienceChemical vapor depositionBand gapAmorphous solidDielectricOptoelectronicsWavelengthAmorphous siliconSiliconVisible spectrum
타입
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게재 연도
2023

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