웨이퍼 포토리소그래피에서 사용하는 스텝 앤드 스캔 방식은 높은 해상도에도 불구하고 소요 시간이 길다는 단점이 있다. 단계 시간에 영향을 줄 수 있는 요인으로는 스테이지 성능, 광(빛) 세기, 스캔 속도 및 기타 변수가 있다. 스캔 속도는 장비가 공정 도스(dose) 요구 조건을 충족할 수 있는 범위 내에서 변경될 수 있다. 따라서 공정 시간을 최소화하는 범위 내에서 최적 스캔 속도를 결정할 필요가 있다. 본 논문에서는 이 문제를 해결하기 위해 최적화 문제를 정식화하고, 단순 가속도 기반 스텝 운동 모델을 사용하여 웨이퍼 노광 시간의 해석적(analytical) 형태를 제시한다. 예시를 통해 스캔 속도 해를 도출할 수 있음을 보여주며, 또한 웨이퍼 노광 시간을 줄이는 관점에서 다른 스캔 속도 후보들과의 성능 비교를 제공한다.

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