주요 논문
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Article
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인용수 6
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2025Organic Radical-Boosted Ionic Conductivity in Redox Polymer Electrolyte for Advanced Fiber-Shaped Energy Storage Devices
Jeong-Gil Kim, Jaehyoung Ko, Hyung‐Kyu Lim, Yerin Jo, Hayoung Yu, Min Woo Kim, Min Ji Kim, Hyeon Su Jeong, Jinwoo Lee, Yongho Joo, Nam Dong Kim
IF 36.3 (2025)
Nano-Micro Letters
일반적인 활성 물질이 없이도, 우수한 안정성을 보이며(8,000회의 굽힘 사이클 후 정전용량 유지율 91.2%), 본 연구는 높은 이온 전도성과 향상된 에너지 저장 능력을 위해 HT의 고유한 기능을 활용하는 다목적 HT_RPE를 강조한다. 이는 차세대 유연 에너지 저장 장치를 위한 유망한 경로를 제공한다.
https://doi.org/10.1007/s40820-025-01700-9
Electrolyte
Ionic conductivity
Materials science
Energy storage
Electrochemistry
Supercapacitor
Chemical engineering
Conductivity
Redox
Ionic liquid
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Article
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인용수 1
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2024Scan Speed Optimization for Wafer Exposure Time Reduction in Semiconductor Manufacturing
Jisu Kim, Hyeseon Kwon, Kwanghyun Cho, Myungsik Lee, Weonchan Sung, Yunha Kim, Jeong-Gil Kim
웨이퍼 포토리소그래피에서 사용하는 스텝 앤드 스캔 방식은 높은 해상도에도 불구하고 소요 시간이 길다는 단점이 있다. 단계 시간에 영향을 줄 수 있는 요인으로는 스테이지 성능, 광(빛) 세기, 스캔 속도 및 기타 변수가 있다. 스캔 속도는 장비가 공정 도스(dose) 요구 조건을 충족할 수 있는 범위 내에서 변경될 수 있다. 따라서 공정 시간을 최소화하는 범위 내에서 최적 스캔 속도를 결정할 필요가 있다. 본 논문에서는 이 문제를 해결하기 위해 최적화 문제를 정식화하고, 단순 가속도 기반 스텝 운동 모델을 사용하여 웨이퍼 노광 시간의 해석적(analytical) 형태를 제시한다. 예시를 통해 스캔 속도 해를 도출할 수 있음을 보여주며, 또한 웨이퍼 노광 시간을 줄이는 관점에서 다른 스캔 속도 후보들과의 성능 비교를 제공한다.
https://doi.org/10.1109/iecon55916.2024.10905733
Wafer
Reduction (mathematics)
Semiconductor device fabrication
Semiconductor
Computer science
Materials science
Optoelectronics
Mathematics
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Article
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인용수 9
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2024Optimization of Epitaxial Structures on GaN-on-Si(111) HEMTs with Step-Graded AlGaN Buffer Layer and AlGaN Back Barrier
Jeong-Gil Kim
IF 2.8 (2024)
Coatings
최근 균열이 없는 GaN-on-Si 성장 기술은 고성능 전력 반도체 소자의 수요가 증가함에 따라 점점 더 중요해지고 있다. 본 논문에서는 성장 조건과 두께를 변화시켜, Si (111) 기판 위의 AlGaN/GaN HEMT용 버퍼 구조인 AlN 핵생성 층 및 step-graded AlGaN 층을 실험적으로 최적화하였다. 이는 균열이 없는 GaN-on-Si 에피택셜 성장을 달성하는 데 매우 중요하다. 또한 버퍼 트래핑 효과를 감소시키기 위해 AlGaN 백 배리어를 삽입하였고, 그 결과 캐리어 구속이 향상되며 전류 분산이 억제되었다. 먼저, AlN 핵생성 층은 285 nm의 두께로 최적화되었으며, SEM 이미지로 확인했을 때 가장 매끄러운 표면을 제공하였다. AlN 핵생성 층 위에, 최하부 층부터 최상부 층으로 Al 조성을 증가시키는 방식으로 4개의 step-graded AlGaN 층을 연속적으로 성장시켰는데, 이는 최하부는 AlN에 가깝게, 최상부는 GaN에 가깝게 하여 에피택셜 층에서의 응력과 변형을 점진적으로 감소시키기 위함이다. 또한 두꺼운 step-graded AlGaN 버퍼 층이 더 나은 결정 품질과 표면 형상, 그리고 더 낮은 버퍼 누설 전류에 적합하다는 점이 예상대로 검증되었다. 이러한 최적화된 버퍼 구조 위에 AlGaN 백 배리어를 도입하였고, Si (111) 기판 위의 AlGaN/GaN HEMT 소자 특성에서 백 배리어의 효과가 전이 특성, 출력 특성 및 펄스 I-V 특성과 같은 항목에서 명확히 관찰되었다.
https://doi.org/10.3390/coatings14060700
Buffer (optical fiber)
Materials science
Optoelectronics
Layer (electronics)
Epitaxy
Barrier layer
Composite material
Computer science
Telecommunications
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Article
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인용수 7
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2023Improvement of Dynamic On-Resistance in GaN-Based Devices with a High-Quality In Situ SiN Passivation Layer
Jeong-Gil Kim, J.‐H. Lee, Jun-Hyeok Lee, Dong‐Min Kang, Jung-Hee Lee, Jung-Hee Lee
IF 3 (2023)
Micromachines
) 정상 동작 장치의 경우 4.1%, 정상 차단 장치의 경우 12.8%로 각각 나타났다. 또한 in situ SiN 패시베이션 층을 적용함으로써 분해 특성이 크게 개선되었으며, 이는 in situ SiN 패시베이션 층이 표면 트래핑(surface-trapping) 효과를 현저히 억제할 뿐 아니라 GaN 기반 전력 소자에서 오프 상태 누설 전류를 감소시킬 수 있음을 시사한다.
https://doi.org/10.3390/mi14061227
Passivation
In situ
Materials science
Layer (electronics)
Optoelectronics
Nanotechnology
Chemistry
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Article
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인용수 108
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2020N-doped hierarchical porous hollow carbon nanofibers based on PAN/PVP@SAN structure for high performance supercapacitor
Jeong-Gil Kim, Hyun-Chel Kim, Nam Dong Kim, Myung‐Seob Khil
IF 9.078 (2020)
Composites Part B Engineering
https://doi.org/10.1016/j.compositesb.2020.107825
Materials science
Supercapacitor
Polyacrylonitrile
Carbonization
Electrospinning
Nanofiber
Carbon nanofiber
Carbon fibers
Energy storage
Composite material