기본 정보
연구 분야
프로젝트
논문
구성원
article|
인용수 17
·2024
Capacitorless Two‐Transistor Dynamic Random‐Access Memory Cells Comprising Amorphous Indium–Tin–Gallium–Zinc Oxide Thin‐Film Transistors for the Multiply–Accumulate Operation
Seungho Ryu, Mingu Kang, Kyoungah Cho, Sangsig Kim
IF 6.2Advanced Materials Technologies
초록

산화물 박막 트랜지스터(TFT)로 구성된 커패시터리스 2트랜지스터(2T0C) 동적 랜덤 액세스 메모리(DRAM) 셀은 저전력 및 고밀도 DRAM 셀로서의 가능성을 보이지만, 이러한 셀을 이용한 곱셈-누산(MAC) 연산은 아직 구현되지 않았다. 본 연구에서는 MAC 연산을 위한 비정질 인듐-주석-갈륨-아연 산화물 TFT로 구성된 2T0C DRAM 셀을 제작하였다. 2T0C DRAM 셀에서 한 트랜지스터는 기록 트랜지스터로, 다른 트랜지스터는 판독 트랜지스터로 동작하며, 그 게이트 커패시턴스는 데이터 저장 커패시턴스에 해당한다. 이들 셀은 TFT의 극도로 낮은 누설 전류(1.11 × 10 −18 A µm −1 )로 인해 기존 DRAM 셀에 비해 10 4배 더 긴 1000 s의 보유 시간을 가진다. 이들 셀은 입력과 출력 사이에 비례 관계가 존재하는 시냅스 소자에 대한 원래 조건을 만족한다. MAC 연산은 두 개의 셀을 사용하여 수행된다. 본 연구는 인공 신경망에서 산화물 TFT의 유용성을 입증한다.

*본 초록은 AI를 통해 원문을 번역한 내용입니다. 정확한 내용은 하기 원문에서 확인해주세요.

키워드
Materials scienceThin-film transistorTransistorOptoelectronicsDramDynamic random-access memoryCapacitanceElectrical engineeringNanotechnologySemiconductor memory
타입
article
IF / 인용수
6.2 / 17
게재 연도
2024

주식회사 디써클

대표 장재우,이윤구서울특별시 강남구 역삼로 169, 명우빌딩 2층 (TIPS타운 S2)대표 전화 0507-1312-6417이메일 info@rndcircle.io사업자등록번호 458-87-03380호스팅제공자 구글 클라우드 플랫폼(GCP)

© 2026 RnDcircle. All Rights Reserved.