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배완기 연구실
성균관대학교 나노과학기술학과 배완기 교수
콜로이드 양자점
헤테로에피택시
표면 패시베이션
배완기 교수 연구실
기본 정보
연구 분야
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배완기 연구실

성균관대학교 나노과학기술학과 배완기 교수

배완기 연구실은 나노구조제어 기반 무기화학공학 기술을 중심으로 콜로이드 양자점(QD) 소재의 표면 패시베이션, 헤테로에피택시 성장, 스트레인 제어를 수행합니다. QD의 전계발광 및 발광 성능을 확보하기 위해 비파괴 포토패터닝과 크로스톡 저감용 가교 강화 공정 관점의 소재 설계를 결합합니다. 또한 형태 불균일성과 충전 엑시톤의 Auger 재결합처럼 재결합 메커니즘을 정량적으로 분석하여 표시용 화소소재 및 광변환 디스플레이 광원에 적용 가능한 기술 축을 구축합니다.

콜로이드 양자점헤테로에피택시표면 패시베이션비파괴 포토패터닝전계발광
대표 연구 분야
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비파괴 포토패터닝 기반 전계발광 양자점 표시용 잉크 및 화소소재 연구 thumbnail
비파괴 포토패터닝 기반 전계발광 양자점 표시용 잉크 및 화소소재 연구
Non-destructive Photopatterning-based QD Ink and Pixel Materials for Electroluminescent Displays
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연구 성과 추이
표시된 성과는 수집된 데이터 기준으로 산출되며, 일부 차이가 있을 수 있습니다.

5개년 연도별 논문 게재 수

66총합

5개년 연도별 피인용 수

2,364총합
주요 논문
5
논문 전체보기
1
article
|
인용수 29
·
2024
Strain-graded quantum dots with spectrally pure, stable and polarized emission
Dongju Jung, Jeong Woo Park, Sejong Min, Hak June Lee, Jin Su Park, Gui‐Min Kim, Doyoon Shin, Seongbin Im, Jaemin Lim, K Kim, Jong Ah Chae, Doh C. Lee, Raphaël Pugin, Xavier Bulliard, E. H. Hwang, Ji‐Sang Park, Young‐Shin Park, Wan Ki Bae
IF 15.7 (2024)
Nature Communications
구조적 변형은 반도체의 밴드갭, 엑시톤 미세 구조 및 포논 에너지를 변화시켜 광학적 특성을 제어하기 위한 추가적인 조절 손잡이를 제공한다. 이러한 영향은 콜로이드 반도체 양자점(quantum dots, QDs)에서 활용될 수 있는데, 표면 성장 동역학을 제어함으로써 결함 형성을 억제하면서 3차원으로 구조적 응력을 가할 수 있기 때문이다. 그러나 광학적으로 활성인 결함으로부터 자유로운 QD에서의 구조적 변형에 대한 제어는 아직 달성되지 않았다. 본 연구에서는 동종 유사성(pseudomorphic) 이종 에피택시(coherent pseudomorphic heteroepitaxy)로 조성적으로 급격한 인터페이스를 갖는 변형 구배(strain-graded) CdSe-ZnSe 코어-쉘 QD를 구현함을 보인다. 그 결과 생성된 QD는 높은 구조적 충실도를 유지한 채 인터페이스에서 크기가 상이한 상호 탄성 변형을 견딜 수 있으며, 거의 1에 가까운 발광 효율로 광자를 가속된 속도로 방출하면서도 분광적으로 안정적이고 순수한 발광을 가능하게 한다. 우리는 비대칭 변형 효과와 양자 구속(quantum confinement) 효과를 결합하여 가시 전 영역을 포괄하는 QD의 발광 포락선을 확장하고, 이를 포토닉스 응용에 활용하는 사례를 제시한다.
https://doi.org/10.1038/s41467-024-49791-z
Quantum dot
Materials science
Luminescence
Exciton
Deformation (meteorology)
Semiconductor
Optoelectronics
Spontaneous emission
Photonics
Photon
2
article
|
·
인용수 30
·
2024
Growth Control of InP/ZnSe Heterostructured Nanocrystals
Doyoon Shin, Hak June Lee, Dongju Jung, Jong Ah Chae, Jeong Woo Park, Jeong Woo Park, Jaemin Lim, Seongbin Im, Sejong Min, E. H. Hwang, Doh C. Lee, Young‐Shin Park, Jun Hyuk Chang, Kyoungwon Park, Junki Kim, Ji‐Sang Park, Ji‐Sang Park, Wan Ki Bae
IF 26.8 (2024)
Advanced Materials
헤테로구조 반도체 나노결정(h-NCs)의 형태학은 전하 운반자의 공간적 분포와 이들의 재결합 동역학 및/또는 수송을 좌우하며, 이는 h-NCs를 활용하는 광자공학 응용의 주요 성능 지표이다. 중금속 프리 원소로 구성된 헤테로가치성(heterovalent) III-V/II-VI h-NCs의 형태를 제어하지 못하는 점은 그들의 실용적 활용을 저해한다. 본 연구는 III-V/II-VI h-NCs의 사례 연구로서, InP 나노결정 상에서 ZnSe 에필레이어를 성장시키는 성장 제어를 여기에서 제시한다. InP/ZnSe h-NCs에서 관찰되는 이방성 형태는 서로 다른 InP 나노결정의 면(facet) 위에 ZnSe 에필레이어를 성장시키는 과정에서의 면 의존적 에너지 비용에 기인하며, 서로 다른 표면 면에 대한 ZnSe의 성장 속도를 제어하기 위한 효과적인 화학적 수단이 입증된다. 궁극적으로 본 논문은 InP/ZnSe h-NCs의 제어된 형태학에 기반하여 안정적이고 순수한 발광에서 환경에 민감한 발광으로 그들의 광물리적 특성을 확장하고자 하며, 이는 다양한 광자공학 응용에서의 활용을 촉진할 것이다.
https://doi.org/10.1002/adma.202312250
Materials science
Nanocrystal
Nanotechnology
Optoelectronics
Crystal growth
Chemical engineering
Crystallography
3
erratum
|
인용수 3
·
2023
Author Correction: Direct patterning of colloidal quantum dots with adaptable dual-ligand surface
Donghyo Hahm, Jaemin Lim, Hyeokjun Kim, Jin‐Wook Shin, Seongkwon Hwang, Seunghyun Rhee, Jun Hyuk Chang, Jeehye Yang, Chang Hyeok Lim, Hyunwoo Jo, Beomgyu Choi, Nam Sung Cho, Young‐Shin Park, Doh C. Lee, E. H. Hwang, Seungjun Chung, Chan‐mo Kang, Moon Sung Kang, Wan Ki Bae
IF 38.1 (2023)
Nature Nanotechnology
https://doi.org/10.1038/s41565-022-01313-y
Colloid
Quantum dot
Dual (grammatical number)
Ligand (biochemistry)
Nanotechnology
Quantum
Surface (topology)
Materials science
Physics
Chemistry
최신 정부 과제
31
과제 전체보기
1
2025년 3월-2028년 12월
|891,630,000
인공지능 기반 재료설계를 통한 탠덤구조 전계발광 양자점(EL-QD) 디스플레이용 화소소재 및 잉크 개발
□ 인공지능 기반 재료설계를 통한 탠덤구조의 전계발광 양자점 (EL-QD) 무기소재 및 잉크 개발 o EL-QD소자의 EQE 20% RGB QD 발광층 소재 개발 o 적색, 녹색, 청색 QD 적용 EL-QD소자의 EQE 20%를 갖는 공통층 소재 개발 o 탠덤용 CGL 소재 개발 o 잉크젯 프린팅 공정이 가능하도록 용매 간 직교성을 갖는 QD 발광층...
양자점
전계발광소자
전하수송층
직교성
잉크젯
2
2024년 6월-2028년 12월
|1,441,730,000
초실감 자발광 양자점 디스플레이용 가교강화형 소재 및 크로스톡프리 화소 공정 기술 개발
초실감, 고색재현성 자발광 양자점 디스플레이를 위한 가교강화형 소재(양자점 발광소재, 전하전달 소재) 및 고해상도 크로스톡프리 화소 공정 기술 개발(화소밀도 7000 ppi 이상, 색재현 BT2020 95% 이상, 전기 및 전기확학적 크로스톡 3% 미만)
크로스톡프리 양자점 근안디스플레이
가교강화형 소재
축퇴올림기반 초고색순도 발광소재
직접리소그래피
실리콘강화 포토리소그래피
3
2024년 6월-2028년 12월
|1,425,000,000
초실감 자발광 양자점 디스플레이용 가교강화형 소재 및 크로스톡프리 화소 공정 기술 개발
초실감, 고색재현성 자발광 양자점 디스플레이를 위한 가교강화형 소재(양자점 발광소재, 전하전달 소재) 및 고해상도 크로스톡프리 화소 공정 기술 개발(화소밀도 7000 ppi 이상, 색재현 BT2020 95% 이상, 전기 및 전기확학적 크로스톡 3% 미만)
크로스톡프리 양자점 근안디스플레이
가교강화형 소재
축퇴올림기반 초고색순도 발광소재
직접리소그래피
실리콘강화 포토리소그래피
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상태출원연도과제명출원번호상세정보
등록2021가교와 해리가 가역적으로 가능한 양자점 리간드 및 이를 이용하여 제조된 양자점 박막1020210170447
등록2020양자점 및 이를 포함하는 발광 소자1020200017912
소멸2016아민기를 갖는 덴드리머로 리간드 치환된 양자점 발광층을 포함하는 양자점 발광소자 및 이의 제조방법1020160069720
전체 특허

가교와 해리가 가역적으로 가능한 양자점 리간드 및 이를 이용하여 제조된 양자점 박막

상태
등록
출원연도
2021
출원번호
1020210170447

양자점 및 이를 포함하는 발광 소자

상태
등록
출원연도
2020
출원번호
1020200017912

아민기를 갖는 덴드리머로 리간드 치환된 양자점 발광층을 포함하는 양자점 발광소자 및 이의 제조방법

상태
소멸
출원연도
2016
출원번호
1020160069720

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