배완기 교수 연구실
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비파괴 포토패터닝 기반 전계발광 양자점 표시용 잉크 및 화소소재 연구

Non-destructive Photopatterning-based QD Ink and Pixel Materials for Electroluminescent Displays

연구 내용

리간드 패시베이션과 광가교를 조합하여 양자점(QD) 박막을 비파괴 방식으로 미세 패터닝하고, 표시용 전계발광 화소 구조에 적용하는 연구

본 연구는 콜로이드 양자점(QD)의 표면 리간드를 광가교 가능한 리간드와 분산 안정화 리간드로 이중화하여, 리소그래피 기반의 직접 패터닝이 가능한 공정 창을 확보하는 데 초점을 맞춥니다. 포토크로스링킹이 QD의 광발광 및 전계발광 특성을 유지하도록 가교 효율과 표면 패시베이션을 조절하고, 마이크로미터 스케일에서 다색 패턴 구조를 구현합니다. 또한 표시 공정에서 요구되는 크로스톡 저감과 비파괴 공정 적합성을 목표로 화소소재 및 QD 잉크로의 전이를 수행합니다.

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연구 흐름

초기에는 이중 리간드 패시베이션을 통해 용액 기반 패터닝 중에도 QD 박막의 광특성과 전하수송 특성이 유지되는 조건을 확립했습니다. 이후 상용 포토리소그래피 환경에서 QD를 미세 패턴으로 직접 형성하는 비파괴 포토패터닝 공정으로 확장했고, 광가교 조건 최적화를 통해 다색(RGB) 패턴 구현과 소자 수명 연장을 함께 평가했습니다. 최근에는 표시용 화소 공정 관점에서 크로스톡 저감과 잉크 기반 제작성을 반영한 소재 및 공정 기술 개발을 진행하고 있습니다.

활용 가능성

활용 가능성은 알앤디써클 특화 AI 에이전트가 생성한 내용으로, 실제 연구 가능 여부는 연구실과의 논의가 필요합니다.

  • QD 디스플레이 화소 잉크젯 공정
  • RGB 미세 패턴 형성 기술
  • 크로스톡 저감용 가교 강화 소재
  • 비파괴 포토패터닝 공정 플랫폼
  • 전계발광 소자용 패턴 QD 박막
  • 유연 디스플레이용 용액 공정
  • 광여기 기반 색순도 구현 소재
  • 표시용 대면적 패턴 제작
  • 광학/광전자 미세회로용 QD 필름
  • 공정 호환성 중심 QD 잉크 포뮬레이션

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