|홍완식 교수 연구실
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제8차 강유전체 연합 심포지엄
Characteristics of Silicon Nitride Films Deposited by Cat-CVD at a Low Temperature (100oC)
구분
국내
국가
대한민국
컨퍼런스명
제8차 강유전체 연합 심포지엄
발표 제목
Characteristics of Silicon Nitride Films Deposited by Cat-CVD at a Low Temperature (100oC)
기관명
강유전체연구회
참여 연도
2012
상세 설명
강유전체연구회