화학기상증착(Chemical Vapor Deposition, CVD) 방법을 통한 박막의 진공 성장(vacuum growth)은 현대 반도체 및 평판 디스플레이 산업에서 널리 사용되어 왔다. CVD 공정은 변형의 폭이 넓으며, 작동 조건, 전원 공급원, 전구체 물질 등과 같은 기준에 따라 분류된다. 모든 CVD 분지에 공통적인 기본 구성 요소와 공정 단계가 논의된다. 또한 두 가지 주요 CVD 기법인 LPCVD와 PECVD의 특성과 응용을 간략히 검토한다.

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