휘어지고 웨어러블한 디바이스 응용을 위해서는 보통 일반적인 플라스틱 시트의 유리전이온도보다 낮은 수준의 충분히 낮은 처리 온도를 확보할 필요가 있다. 촉매 화학 기상 증착(catalytic chemical vapor deposition, Cat-CVD) 기술은 필름 성장 속도가 빠르고 가스 이용 효율이 높다는 등의 다양성과 장점으로 잘 알려져 있다. 이러한 장점들은, 대전된 입자의 폭격으로 인해 발생하는 원자 규모의 손상이 없다는 점과 결합되어, 박막 트랜지스터의 저온 공정 응용에 이 방법을 매력적으로 만든다. 본 총설에서는 촉매 화학 증착 공정에서의 필름 성장 거동을 논의하고, 표면 전처치를 포함한 최근 연구들을 바탕으로 박막 트랜지스터 적용 현황을 조사한다.

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