|김태곤 교수 연구실
홈
연구 영역
기본 정보
논문·특허
과제
구성원
Article|
·
인용수 16
·2022
Effect of slurry particles on PVA brush contamination during post-CMP cleaning
Samrina Sahir, Hwi-Won Cho, Palwasha Jalalzai, Suprakash Samanta, Satomi Hamada, Tae‐Gon Kim, Jin-Goo Park
IF 4.1 (2022) Materials Science in Semiconductor Processing
키워드
BrushSlurryAbrasiveData scrubbingContaminationMaterials scienceChemical-mechanical planarizationStripping (fiber)Chemical engineeringComposite material
타입
Article
IF / 인용수
4.1 / 16
원문
https://doi.org/10.1016/j.mssp.2022.107043
게재 연도
2022