Effect of wafer-brush relative velocity on non-uniform PVA brush wear and cleaning consistency in oxide post-CMP cleaning | 박진구 교수 연구실 | 한양대학교 차세대반도체융합공학부

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과제

구성원

ICPT 2025

Effect of wafer-brush relative velocity on non-uniform PVA brush wear and cleaning consistency in oxide post-CMP cleaning

구분

국외

국가

홍콩

컨퍼런스명

ICPT 2025

발표 제목

Effect of wafer-brush relative velocity on non-uniform PVA brush wear and cleaning consistency in oxide post-CMP cleaning

기관명

ICPT 2025

참여 연도

2025

상세 설명