|박진구 교수 연구실
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과제
구성원
ICSCRM 2025
Improved Particle Removal and Sub-Nanometer Roughness Control in 4H-SiC Wafers Using PVA Brush Conditioning
구분
국외
국가
대한민국
컨퍼런스명
ICSCRM 2025
발표 제목
Improved Particle Removal and Sub-Nanometer Roughness Control in 4H-SiC Wafers Using PVA Brush Conditioning
기관명
ICSCRM 2025
참여 연도
2025
상세 설명
ICSCRM 2025