1. 인쇄 공정을 이용한 표면전하이동도핑(surface change transfer doping, SCTD) 기술 선택성 고도화2. 대면적 이차원 반도체 소재의 선택적 영역 도판트와 전극 적층 인쇄 기술 개발3. 선택적 확산 도핑에 따른 이차원 반도체 소재의 도핑 특성 및 물성 평가4. 확산 도핑에 의한 고성능 대면적 이차원 반도체 소자의 신뢰성 평가 및 ...

1차년도 높은 신축성, 파괴인성, 피로저항도를 동시에 갖는 탄성체 개발기판의 균일한 물성 제어용 메타 구조 설계메타 구조체 적용을 위한 강성가변형 (10배) 복합 소재 개발유한요소시뮬레이션을 이용한 메타 구조 설계 시스템 구축잔류응력이 최소화된 대면적 고분자 기판 (10 cm x 10 cm) 제작 공정 개발10,000 S/cm 전도도를 갖는 신축 전극 배선...

● 신축성 압력 반응 근적외선 발광소자 층: 전체 층은 투명하고 신축 가능한 소재로 구성하며, 내재 신축성 QLED의 상부 전극을 압력 반응 전극으로 대체하는 방식으로 제작됨. 특히 발광 소재로 양자점-고분자 복합체를 활용해 기존 연구 결과 대비 높은 신축성을 가지는 발광소자를 제작함.● 수광 센서: 수직으로 적층된 포토 다이오드와 블로킹 다이오드를 이용해...

<1차년도 – 이차원 반도체층의 계면 제어 및 도핑을 위한 유기 소재와 인쇄 공정 확보> ￭ 이차원 포토트랜지스터 계면 제어 및 도핑 소재 탐색과 기능성 잉크화 기술 개발 - 이차원 반도체의 전기적 특성을 향상 시킬 수 있는 도판트 소재 탐색 및 기능성 잉크 개발. - 이차원 반도체와 공기 / 전극 / 절연층 간의 계면 특성을 향상 시켜줄 수 있는 유기 소재 탐색 및 기능성 잉크 개발. ￭ picoliter 급 고품질 기능성 잉크 액적 형성 및 이차원 반도체상에 선택적 미세 계면 제어 기술 개발 - 개발된 기능성 잉크에 대해 잉크젯 프린팅 공정 조건 확보. - 안정적인 잉크젯 프린팅을 위해 도판트의 함량, 점도, 표면 장력, 액적속도 등 잉크 조성 제어를 통해 긴 꼬리(long-tail) 및 위성 방울(satellite droplet) 형성을 최소화. - 최적화된 잉크젯 프린팅 공정 확보를 통해 3 pL 급 미세 액적 형성 및 50 μm 급 선택적 계면 제어기술 확보. <2차년도 – 정밀 계면 제어된 이차원 반도체 기반 포토트랜지스터 특성 평가> ￭ 인쇄 공정을 이용한 계면 제어 및 도핑에 따른 이차원 반도체 포토트랜지스터 전기적 특성 평가 - 이황화 몰리브덴상에 인쇄 공정으로 n형 도핑 후 전기적 특성 향상. - 이차원 반도체 포토트랜지스터의 계면 제어를 통해 전기적 특성 향상. - n형, p형 트랜지스터에 대해 전하이동도 > 10 cm^2 /Vs, 점멸비 > 10^6 이상. - 이차원 반도체와 전극 간의 중간층 삽입을 통해 접촉 저항 50 % 이상 감소. - 계면 제어를 통해 광반응도 향상. <3차년도 – 정밀 계면 제어된 이차원 반도체 기반 포토트랜지스터 특성 평가> ￭ 이차원 반도체 포토트랜지스터 신뢰성 평가 및 CMOS 회로 제작 기술 개발 - 계면 제어를 통해 전하트랩밀도를 감소시킴으로써 게이트 전압, 드레인 전압, 장시간 빛 노출 스트레스 하에서의 문턱 전압 이동 및 포토특성 신뢰성 확보. - 인쇄 공정을 이용한 각각의 계면 제어 및 도핑을 통해 향상된 CMOS 회로를 제작하여 인쇄 공정과 이차원 반도체 소자의 시너지를 창출하여 응용 가능성을 확인함.