Inkjet-Printed Doping and Device Engineering for 2D Semiconductors
연구 내용
잉크젯 기반 선택적 도핑을 통해 이차원 반도체 소자의 전기적 특성을 정밀 조절하는 연구
본 연구는 2D 소재의 표면전하이동도핑을 잉크젯 방식으로 선택적으로 구현하여 전계효과트랜지스터의 특성을 정밀 조절하는 기술을 개발합니다. 도판트 잉크의 용매 조성, 점도, 액적 부착 특성을 조절하여 미세 영역에 정밀한 패턴 도핑을 구현하며, 도핑 농도와 분포에 따른 전기적 응답 변화를 체계적으로 분석합니다. 또한 대면적 인쇄 공정에서 도판트와 전극의 적층 순서 및 확산 특성을 고려하여 소자의 균일성을 확보합니다. 이러한 방법론은 기존 용액침지 방식 대비 높은 선택성을 제공하며, 대면적 공정과 소자 집적화에 적합한 확장성을 보유하고 있습니다.
관련 연구 성과
관련 논문
1편
관련 특허
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관련 프로젝트
1건
연구 흐름
초기 연구는 대면적 TMD 소자 제작을 위한 표면전하이동도핑 원리를 규명하고, 잉크 기반 도판트의 액적 제어 조건을 구축하는 데 중점을 두었습니다. 이어서 도핑 패턴의 선택성을 높이기 위해 액적 확산 억제 조건과 도핑 깊이 제어 전략을 개발하였습니다. 최근에는 확산 도핑을 기반으로 대면적 소자의 성능 균일성과 신뢰성을 확보하는 연구를 수행하며, 인쇄 전자 기반 2D 반도체 소자의 고성능화로 확장되고 있습니다.
활용 가능성
활용 가능성은 알앤디써클 특화 AI 에이전트가 생성한 내용으로, 실제 연구 가능 여부는 연구실과의 논의가 필요합니다.
관련 논문
구분
제목
Tailoring the Electrical Characteristics of MoS<sub>2</sub> FETs through Controllable Surface Charge Transfer Doping Using Selective Inkjet Printing
관련 프로젝트
구분
제목
인쇄 공정 기반 확산 도핑을 통한 대면적 이차원 반도체 소자의 전기적 특성 제어 및 고성능 소자 구현 기술 개발