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인용수 8
·2024
Overcoming the Tradeoff of Visible Transparency and Electrical Conductance via Dual Smoothing of Dielectric/Metal Interfaces in Cu-Thin-Layer-Based Transparent Electrodes
J. Y. Lim, Si Hyeon Joo, Heechang Kim, Dooho Choi
IF 8.2ACS Applied Materials & Interfaces
초록

Cu 박막층 기반 DMD TEs에서의 최고 기록으로, ITO 전극 값보다 훨씬 뛰어납니다. 또한 향상된 광전자 성능은 전기적, 열적, 기계적 스트레스를 동시에 가혹한 조건에서 가해도 매우 높은 내구성을 유지하여, 유연(optical) 전자소자 분야에서의 중대한 발전 가능성을 보여줍니다.

*본 초록은 AI를 통해 원문을 번역한 내용입니다. 정확한 내용은 하기 원문에서 확인해주세요.

키워드
Materials scienceTransparency (behavior)ElectrodeDielectricOptoelectronicsConductanceLayer (electronics)Optical transparencyThin filmMetal
타입
article
IF / 인용수
8.2 / 8
게재 연도
2024

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