Opto-Electronic Materials Lab

재료공학부 송풍근

재료공학부의 Opto-Electronic Materials Lab은 첨단 전자재료와 소자의 개발에 중점을 두고 있습니다. 최근 3년간 주요 연구 분야로는 붕소 도핑 다이아몬드(BDD) 전극, 투명 박막 트랜지스터(TTFT), 고효율 투명 전도성 산화물(TCO) 타겟, 저저항 ITO 필름 등이 있습니다. 특히, BDD 전극은 전기화학적 특성 평가와 폐수 처리에 효과적이며, TTFT는 유연 전자 소자에 중요한 역할을 합니다. 또한, 삼성 코닝 어드밴스드 글래스와의 협력을 통해 고효율 TCO 타겟의 아킹 및 결절 형성을 조사하였으며, LG화학과의 협력으로 저저항 ITO 필름의 결정화 가속 공정을 통해 제조 기술을 향상시켰습니다. 이러한 연구 성과는 다수의 논문과 특허로 이어졌으며, 산업계와의 협업을 통해 실질적인 응용 가능성을 높이고 있습니다.

Low Resistance ITO Film

High Efficiency TCO Target

Transparent Thin Film Transistor

대표 연구 분야

연구 영역 전체보기

저항이 낮은 ITO 필름 설계 및 제조

본 연구실에서는 인듐 주석 산화물(ITO) 필름의 저항을 낮추기 위한 다양한 설계 및 제조 기술을 연구하고 있습니다. 특히, 크리스탈화 가속 공정을 통해 ITO 필름의 전기적 특성을 향상시키는 방법을 탐구하고 있습니다. 이 기술은 LG화학과의 공동 연구를 통해 발전시켜온 것으로, 나노 구조 제어 및 고온 열처리 기술을 적용하여 투명 전도막의 성능을 최적화합니다. 이를 통해 고성능 터치 패널, 디스플레이, 태양광 집전기 등 다양한 응용 분야에서 활용될 수 있는 고품질 ITO 필름을 제조할 수 있습니다.

보론 도핑 다이아몬드(BDD) 전극 개발 및 응용

보론 도핑 다이아몬드(BDD) 전극은 뛰어난 전기화학적 특성과 기계적 안정성을 가진 소재로, 다양한 전기화학적 응용 분야에서 주목받고 있습니다. 본 연구실에서는 BDD 전극의 두께와 형태에 따른 전기화학적 특성 및 화학적 산소 요구량(COD)을 평가하여 최적의 BDD 전극을 설계하는 연구를 진행하고 있습니다. 또한, BDD 전극의 접착력을 향상시키는 제조 방법을 개발하여, 이를 폐수 처리, 센서, 에너지 저장 장치 등 다양한 분야에 적용할 수 있는 기술을 확보하고자 합니다. 이러한 연구는 향후 산업계와의 협력을 통해 실용화될 수 있습니다.

주요 논문

138

발행물 전체보기

Hydrogen-driven dramatically improved mechanical properties of amorphized ITO?Ag?ITO thin films

ROYAL SOCIETY OF CHEMISTRY, 2021

Effect of Boron Doping on Diamond Film and Electrochemical Properties of BDD According to Thickness and Morphology

COATINGS, 2020

Effect of working pressure on the properties of RF sputtered SnS thin films and photovoltaic performance of SnS-based solar cells

JOURNAL OF ALLOYS AND COMPOUNDS, 2020