|석중현 교수 연구실
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제 36회 한국진공학회
Effect of Filament Temperature,Processing Pressure and CH4 gas on Silicon-Carbide Films at Low Temperatures by Cat-CVD
구분
국내
국가
대한민국
컨퍼런스명
제 36회 한국진공학회
발표 제목
Effect of Filament Temperature,Processing Pressure and CH4 gas on Silicon-Carbide Films at Low Temperatures by Cat-CVD
기관명
(사)한국진공학회
참여 연도
-
상세 설명
(사)한국진공학회