|석중현 교수 연구실
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Europe Materials Research Society 2008 spring meeting
A High Rate Deposition of Nanocrystalline-Si Films at Low Temperatures (<200 ℃) by Catalytic CVD Technique
구분
국외
국가
프랑스
컨퍼런스명
Europe Materials Research Society 2008 spring meeting
발표 제목
A High Rate Deposition of Nanocrystalline-Si Films at Low Temperatures (<200 ℃) by Catalytic CVD Technique
기관명
Europe Materials Research Society
참여 연도
-
상세 설명
Europe Materials Research Society