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436

351

유리/실리콘 기판 직접 접합에서의 세정과 열처리 효과
민홍석, Joo Young Chang, Ohsung Song
전기전자재료학회논문지, 2002

352

Effect of ICP plasma oxidation time on tunneling magnetic junction
10055561
journal of applied physics, 2002

353

절연막층의 플라즈마 산화시간에 따른 CoFe/AlO/CoFe/NiFe 구조의 터널자기저항 효과 연구
Young Min Rhee, Ohsung Song
전기전자재료학회논문지 - 등재, 2002

354

선형가열기를 이용한 Si∥SiO2/Si3N4∥Si 이종기판쌍의 직접접합
이상현, 이상돈, Ohsung Song
전기전자재료학회논문지 - 등재, 2002

355

Direct bonding of Si∥SiO2/Si3N4∥Si wafer pairs with a Fast Linear Annealing
10055561
materials science in semiconductor processing, 2002

356

2단계 AlOx 절연층 공정에서 하부절연층의 산화시간에 따른 터널자기저항 특성연구
10055561
한국재료학회지 - 등재, 2002

357

Defect study of crystallized amorphous Co-rich magnetic alloy
Hee‐Moon Kyung, Hyung S. Ahnn, Chong Seung Yoon, C.K. Kim, Ohsung Song
Materials Science and Engineering B, 2002

358

전기로를 이용한 Si/SiO/SiN/Si이종기판쌍의 직접접합
10055561
한국재료학회지 - 등재, 2002

359

절연막층의 플라즈마산화시간에 따른 CoFe/AlO/CoFe/NiFe구조의 터널자기저항효과
10055561
전기전자재료학회논문지 - 등재, 2002

360

유리/실리콘 기판 직접접합에서의 세정과 열처리효과에 대한 연구
10055561
전기전자재료학회논문지 - 등재, 2002