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과제
구성원
Article|
인용수 7
·2024
Optimizing laser-induced deep etching technique for micromachining of NXT glass
Seunghyun Bang, Ghulam Asghar, Juil Hwang, Ki Sang Lee, Woohyun Jung, Konstantin Mishchik, Hyungsik Kim, Kwang-Geol Lee
IF 3.3 (2024) Optics Express
초록

또한 40 kHz의 반복률과, HF와 HCl의 몰비가 1:5인 화학 조성의 조합으로 이루어졌다. 그 결과 약 23:1의 높은 종횡비와 인상적인 식각 속도 1200 µm/h를 얻었다.

*본 초록은 AI를 통해 원문을 번역한 내용입니다. 정확한 내용은 하기 원문에서 확인해주세요.

키워드
Surface micromachiningOpticsMaterials scienceEtching (microfabrication)LaserLaser beamsDeep reactive-ion etchingOptoelectronicsReactive-ion etchingFabrication
타입
Article
IF / 인용수
3.3 / 7
게재 연도
2024