Electrical transport in oxide ceramics thin films with reliability-focused low-GWP deposition and ceramic heater systems
연구 내용
ZrO2 도핑에 따른 벌크-박막 전기특성 차이를 규명하고, TFT 보호막 공정의 저GWP 대체가스 기술과 AlN 세라믹 히터 설계를 통해 소자 기반을 강화하는 연구
본 연구는 전자세라믹스 박막에서 도핑에 의해 유도되는 전기수송 메커니즘을 벌크와 박막 관점에서 비교·분석하여, 공정 조건이 소자 특성에 미치는 영향을 해석하는 데 목적이 있습니다. 특히 ZrO2에서 acceptor 또는 donor 도핑 시 전도 관련 지배 요인이 벌크와 박막에서 다르게 나타나는 점을 기반으로 박막 구조의 누설 억제와 전하 거동을 정리합니다. 또한 디스플레이 TFT 보호막 성막을 위한 저GWP 대체가스 및 챔버 세정 공정 기술을 통해 신뢰성 확보를 지원합니다. 더불어 AlN 세라믹 히터와 마이크로그리드 모듈 등 에너지 기반 응용으로 확장합니다.
관련 연구 성과
관련 논문
2편
관련 특허
0건
관련 프로젝트
8건
연구 흐름
연구 흐름은 2022~2023년의 산화물 박막 전기특성 해석 단계에서 시작되었습니다. ZrO2 도핑에 따른 벌크-박막 전기거동 차이를 중심으로 전도 및 누설 억제에 영향을 주는 요인을 정리했습니다. 이후 2024년에는 buried gate IGZO 트랜지스터를 대상으로 스위칭 신뢰성과 수율 관점의 설계를 수행하며 소자 구현 조건을 보강했습니다. 한편 2023년부터는 공정 환경의 영향을 줄이기 위한 저GWP 대체가스·세정 공정과 AlN 세라믹 히터 개발 과제를 병행하여, 소자 물성 규명과 제조 공정 최적화를 연결하는 방향으로 확장했습니다. 2025년에는 에너지칩 기반 마이크로그리드 모듈 개발을 통해 응용 범위를 확대했습니다.
활용 가능성
활용 가능성은 알앤디써클 특화 AI 에이전트가 생성한 내용으로, 실제 연구 가능 여부는 연구실과의 논의가 필요합니다.
관련 논문
구분
제목
Conduction Mechanism in Acceptor- or Donor-Doped ZrO<sub>2</sub> Bulk and Thin Films
Designing buried-gate InGaZnO transistors for high-yield and reliable switching characteristics
관련 프로젝트
구분
제목
디스플레이 TFT 보호막 성막을 위한 기상증착공정용 GWP 150 이하의 대체가스 및 공정 기술 개발
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반도체 공정용 스크린 프린팅 발열체 기반의 AlN 세라믹 히터 개발
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