고내열 폴리이미드 화합물, 이를 포함하는 유기절연체 조성물 및 이를 이용한 박막트랜지스터(High thermal resistant polyimide compopnds, composition containing the same for forming organic gate insulator and thin-film transistor using the same)

광경화성 폴리이미드를 이용한 전극의 패터닝 방법 및 이를 통해 제조된 패턴(The patterning method using photo-crosslinking polyimide and the pattern thereby)

광경화 가능한 안트라센 포함 고내열 폴리벤즈옥사졸 화합물, 이를 포함하는 유기절연체 형성용 조성물 및 이를 이용한 박막 트랜지스터(Photocrosslinkable anthracene containing high thermal resistant polybenzoxazole, composition containing the same for forming organic gate insulator and thin-film transistor using the same)

광개시제가 필요없는 중합성 메조겐 및 이를 포함하는 중합성 액정 조성물(Photo-initiator free polymerizable mesogens and polymerizable liquid crystal compositions containing the same)

광반응 효율이 향상된 중합성 메조겐 및 이를 포함하는 중합성 액정 조성물(Polymerizable mesogens having improved photoreactive efficiency and polymerizable liquid crystal compositions containing the same)

신규 고내열 폴리벤즈옥사졸 화합물, 이를 포함하는 유기절연체 형성용 조성물 및 이를 이용한 박막 트랜지스터(Novel high thermal resistant polybenzoxazole, composition containing the same for forming organic gate insulator and thin-film transistor using the same)