초박막 Ag 박막은 산화물/금속/산화물(OMO) 투명 전도 전극(TCE)에서 매립층으로 매력적이지만, 임계 퍼콜레이션(threshold) 이하에서 응집(agglomeration)이 강하게 일어나는 경향은 광학 및 전기적 성능을 심각하게 저하시킨다. 본 연구에서는 무색 폴리이미드 기판 위의 ITO/금속/ITO OMO형 TCE에서, Ga 합금화와 산화성 스퍼터 증착을 결합함으로써 초박막 Ag 기반 박막의 응집을 효과적으로 억제할 수 있음을 보였다. 매립 금속 조성, 두께, 산소 유량 비 Φ를 조절하여, 5 nm Ag–Ga 층(Φ = 6%)이 연속적이고 공극이 없는 전도 경로를 형성하는 최적 조건을 규명하였으며, 그 결과 550 nm에서 가시 투과율 86–88%와 시트 저항 15.8 Ω sq–1을 달성하였다. TEM/STEM–EDS 및 XPS 분석 결과, Ga 합금화, 계면에서의 Ga 분리(segregation), 그리고 제어된 Ag/Ga 산화가 함께 작용하여 유효 표면 및 계면 에너지를 낮추고 초박막 Ag–Ga 층의 응집에 대한 안정성을 높이는 것으로 나타났다. 그 결과, 최적화된 ITO/Ag–Ga/ITO OMO형 TCE는 높은 성능지수(figure of merit), 우수한 기계적 유연성, 그리고 고온·고습 환경에서의 열화에 대한 강한 내성을 보이며, 투명 히터로 작동하여 비교적 낮은 바이어스에서도 응용에 적합한 온도에 도달한다.

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