Isolated Plasma Thin-Film Deposition and Functional Devices for 2D and Electrochemical Applications
연구 내용
격리 플라즈마 환경에서 저손상 박막을 대면적에 증착하고 2D 재료와 전기화학 활성 산화물 기반 소자를 구현하는 연구
격리 플라즈마 기반 증착은 기판 손상과 불필요 반응을 줄이면서 균일 박막 형성을 가능하게 하는 방향으로 활용됩니다. 본 연구는 isolated plasma soft deposition과 같은 증착 전략을 적용하여 2D MoS2 층을 대면적 기판에 형성하고, 라만 및 광발광 기반 분석으로 박막 품질을 평가합니다. 또한 WO3 기반 전기변색 소자에서 이온빔 처리를 통해 유연 전기적 응답 특성을 확보하는 접근을 수행합니다. 더불어 전극 표면에서 결정성/비정질 상 분포를 제어한 구리 산화물 기반 전기화학 성능을 분석하여 물 분해 반응에서의 활성과 안정성 향상 방향을 검토합니다. 이를 통해 센서·에너지 변환·광학 기능 소자로의 확장 경로를 탐색합니다.
관련 연구 성과
관련 논문
5편
관련 특허
0건
관련 프로젝트
2건
연구 흐름
초기에는 플라즈마 유도 과정에서 발생하는 손상 요인을 분리해 저손상 증착 조건을 확보하는 데 집중했습니다. 이후에는 이를 대면적 공정에 적용하기 위해 2D MoS2 층을 제작하고, 라만 스펙트럼과 광학 신호로 층 품질을 확인하는 연구로 확장했습니다. 동시에 전기변색 및 전기화학 응용으로의 전환을 위해 WO3 전기변색 소자에서 이온빔 처리 조건을 조절하고, 전기적 응답 특성과 유연성 관점을 함께 검토했습니다. 최근에는 전극에서 계면 상(결정성/비정질) 제어가 반응 성능에 미치는 영향을 정리하여 전극 재료 공정-성능의 연결성을 높이는 방향으로 진행하고 있습니다.
활용 가능성
활용 가능성은 알앤디써클 특화 AI 에이전트가 생성한 내용으로, 실제 연구 가능 여부는 연구실과의 논의가 필요합니다.
관련 논문
구분
제목
Soft Sputtering of Large‐Area 2D MoS<sub>2</sub> Layers Using Isolated Plasma Soft Deposition for Humidity Sensors
Enhanced flexibility of WO3-based flexible electrochromic devices for smart windows via ion beam treatment
Electrodeposited copper oxides with a suppressed interfacial amorphous phase using mixed-crystalline ITO and their enhanced photoelectrochemical performances
Soft Sputtering of Large‐Area 2D MoS<sub>2</sub> Layers Using Isolated Plasma Soft Deposition for Humidity Sensors (Adv. Mater. 8/2025)
Plasma damage-free deposition of transparent Sn-doped In2O3 top cathode using isolated plasma soft deposition for perovskite solar cells
관련 프로젝트
구분
제목
핵심(후속) : MEMS 센서 핵심 연구 지원센터
차세대반도체소재부품장비후공정전문인력양성