연구 영역

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연구 분야

기술 도입 효과 및 상용화 단계

경제적/시장 적용 및 기대 효과

1
차세대 메모리(DRAM) 기술
  • 본 연구실의 High-k 유전체 및 전극 소재 기술은 DRAM의 누설 전류를 감소시키고 집적도를 향상시켜, 고성능·저전력 메모리 반도체 양산에 직접적으로 기여할 수 있습니다.
  • 현재 소재 및 공정 최적화 단계로, 양산 라인 적용을 위한 신뢰성 평가를 앞두고 있습니다.

2027년까지 1,630억 달러 규모로 성장이 예상되는 DRAM 시장에서 기술적 우위를 확보할 수 있습니다. 생산 수율 향상과 제품 성능 개선을 통해 시장 점유율 확대 및 높은 투자 수익을 기대할 수 있습니다.

출처: PR Newswire
2
멤리스터(Memristor) 기반 뉴로모픽 소자
  • AI 연산에 특화된 뉴로모픽 칩 개발에 핵심적인 멤리스터 소자 기술을 제공합니다. 기존 폰노이만 구조의 한계를 극복하여 AI 처리 속도와 에너지 효율을 획기적으로 개선할 수 있습니다.
  • 소자 단위의 성능 검증을 완료하고, 어레이(Array) 수준의 집적 및 상용화 연구 단계에 있습니다.

2028년까지 1,171억 달러 규모로 성장이 예측되는 멤리스터 시장에 조기 진입하여 선점 효과를 누릴 수 있습니다. 특히 AI 반도체 시장에서 독보적인 경쟁력을 확보하고 새로운 비즈니스 모델 창출이 가능합니다.

출처: Technavio
3
차세대 디스플레이 기술
  • 고이동도 산화물 박막 기술은 플렉서블 디스플레이의 구동 속도와 안정성을 높이고, 투명 디스플레이의 투과도와 화질을 개선합니다.
  • 시제품 제작 및 성능 평가 단계에 있으며, 특정 고객사의 요구에 맞춘 커스터마이징 및 기술 이전이 가능합니다.

폴더블폰, AR 글래스 등 고부가가치 디스플레이 시장에서 제품 차별화를 통해 경쟁 우위를 확보할 수 있습니다. 혁신적인 제품 출시를 통해 기업의 브랜드 가치를 높이고 새로운 시장을 개척하는 효과를 기대할 수 있습니다.

대표 연구 분야

연구실에서 최근에 진행되고 있는 관심 연구 분야

1

Advanced thin film deposition technique for semiconductor devices

Advanced thin film deposition technique for semiconductor devices - Self-saturation mechanism - Atomic level thickness control - Large are uniformity - Good conformality - Excellent repeatability - Flat and smooth surface

Self-saturation mechanism

Atomic level thickness control

Large are uniformity

Good conformality

Excellent repeatability

Flat and smooth surface

2

DRAM

- High-k dielectrics - High work function electrodes - Muticomponent thin films

High-k dielectrics

High work function electrodes

Muticomponent thin films

3

Memristor

- Nonvolatile memories - Neuromorphic devices for AI applications

Nonvolatile memories

Neuromorphic devices for AI applications

4

Display

- Flexible devices - Transparent displays - High mobility oxide films

Flexible devices

Transparent displays

High mobility oxide films

5

Coating

Coating