|김호준 교수 연구실
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인용수 0
·2026
Stagnation point flow analysis in an inductively coupled plasma reactor for advanced deposition techniques
Chanyeong Jeong, Sanghyun Jo, Ho Jun Kim
IF 13.2 (2026) Chemical Engineering Journal
키워드
PlasmaArgonDeposition (geology)Inductively coupled plasmaVolumetric flow rateAtomic layer depositionElectron temperatureFlow (mathematics)Plasma parametersLangmuir probe
타입
Article
IF / 인용수
13.2 / 0
원문
https://doi.org/10.1016/j.cej.2026.172713
게재 연도
2026