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김호준 연구실
한양대학교 기계공학과 김호준 교수
플라즈마 공정
원자층 증착(ALD)
전산유체역학(CFD)
연구 영역
기본 정보
논문·특허
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김호준 연구실

한양대학교 기계공학과 김호준 교수

김호준 연구실은 반도체 및 박막 공정에서의 유동·수송과 반응을 연계해 공정 거동을 해석하는 전산모사 기반 연구를 수행합니다. 특히 plasma 환경에서의 흡착·분해·반응을 다중스케일로 모델링하고 ALD 공정의 공간적 증착 특성과 챔버 설계 변수의 영향을 규명합니다. 또한 ab-initio 기반 계면·표면 반응 메커니즘 분석을 통해 원자층 성장 특성을 설명하는 방법론을 보유하고 있으며, 데이터 기반 전기촉매 설계와 내마모 표면·코팅 특성 평가로 재료 및 공정 응용 연구도 병행합니다.

플라즈마 공정원자층 증착(ALD)전산유체역학(CFD)다중스케일 전산모사계면·표면 반응
대표 연구 분야
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플라즈마-수송-반응 연계 기반 원자층 증착(ALD)·챔버 공정 시뮬레이션 연구 thumbnail
플라즈마-수송-반응 연계 기반 원자층 증착(ALD)·챔버 공정 시뮬레이션 연구
Plasma–Transport–Reaction Coupled Simulation for Atomic Layer Deposition (ALD) and Chamber Process D
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연구 성과 추이
표시된 성과는 수집된 데이터 기준으로 산출되며, 일부 차이가 있을 수 있습니다.
주요 논문
5
논문 전체보기
1
Article
|
·
인용수 0
·
2026
Multiscale computational fluid dynamics modelling of spatial atomic layer deposition processes: Application to chamber design and process control
Yunseok Kim, Seulwon Choi, Huichan Kang, Ho Jun Kim, Hwanyeol Park
IF 6.3 (2026)
Surfaces and Interfaces
https://doi.org/10.1016/j.surfin.2026.108550
Computational fluid dynamics
Atomic layer deposition
Substrate (aquarium)
Deposition (geology)
Adsorption
Parametric statistics
Vortex
Thin film
Flow (mathematics)
Parametric design
2
Article
|
·
인용수 0
·
2026
Elucidating the super-cycle mechanism in atomic layer growth of HfAlOx ternary metal oxide from an ab-initio study
Yunseok Kim, Seulwon Choi, Ho Jun Kim, Hwanyeol Park
IF 6.3 (2026)
Surfaces and Interfaces
https://doi.org/10.1016/j.surfin.2026.108806
Atomic layer deposition
Ternary operation
Exothermic reaction
Dielectric
Oxide
Hafnia
Density functional theory
Dissociation (chemistry)
Metal
3
Article
|
·
인용수 0
·
2026
Stagnation point flow analysis in an inductively coupled plasma reactor for advanced deposition techniques
Chanyeong Jeong, Sanghyun Jo, Ho Jun Kim
IF 13.2 (2026)
Chemical Engineering Journal
https://doi.org/10.1016/j.cej.2026.172713
Plasma
Argon
Deposition (geology)
Inductively coupled plasma
Volumetric flow rate
Atomic layer deposition
Electron temperature
Flow (mathematics)
Plasma parameters
Langmuir probe
최신 정부 과제
5
과제 전체보기
1
2023년 3월-2026년 12월
|1,606,000,000
공정내 불순물 농도를 실시간 분석 가능한 일체형 저전력 고성능 극저온 고진공 배기장치 개발
ㅇ스퍼터용 8인치 극저온 고진공 배기장치 수요기업 평가ㅇ이온주입기용 12인치 극저온 고진공 배기장치 수요기업 평가ㅇ저전력 헬륨 컴프레서 개발ㅇ스마트 전력제어 및 데이터로깅 가능한 컨트롤시스템 개발ㅇ수분 및 산소 트랜스미터 통합 모듈 개발ㅇ극저온 냉동기 구동용 스테핑모터 제작 및 실장평가ㅇBaffle/array 최적화를 위한 molecular flow sim...
고진공 배기장치
불순물 농도
실시간 모니터링
스퍼터
이온주입기
2
2023년 3월-2026년 12월
|1,578,000,000
공정내 불순물 농도를 실시간 분석 가능한 일체형 저전력 고성능 극저온 고진공 배기장치 개발
ㅇ반도체용 극저온 냉동기 개발ㅇ스퍼터용 8인치 극저온 고진공 배기장치 설계/제작ㅇ이온주입기용 12인치 극저온 고진공 배기장치 설계/제작ㅇ저전력 헬륨 컴프레서 설계ㅇ스마트 전력제어 및 데이터로깅 가능한 컨트롤시스템 설계ㅇ진공환경 용 산소 프로브 및 트랜스미터 확보ㅇ산소 프로브 및 트랜스미터 진공 사용 테스트ㅇ극저온 냉동기 구동용 스테핑모터 설계 및 제작ㅇBa...
고진공 배기장치
불순물 농도
실시간 모니터링
스퍼터
이온주입기
3
주관|
2023년 3월-2026년 12월
|1,350,100,000
공정내 불순물 농도를 실시간 분석 가능한 일체형 저전력 고성능 극저온 고진공 배기장치 개발
본 과제는 반도체 제조 공정 중 발생할 수 있는 불순물 농도를 실시간으로 분석하고 관리할 수 있는 일체형 저전력 고성능 극저온 고진공 배기장치를 개발하는 연구임. 이는 미세한 불순물에도 민감한 반도체 공정의 안정성과 수율을 높이는 데 필수적인 기술 개발에 해당함. 연구 목표는 반도체용 극저온 냉동기 개발 및 스퍼터와 이온주입기용 극저온 고진공 배기장치 설계/제작임. 또한, 저전력 헬륨 컴프레서와 스마트 전력제어 컨트롤시스템 개발, 진공환경용 산소 프로브 확보 및 테스트, 극저온 냉동기 구동용 스테핑모터 설계/제작 등을 포함함. 핵심 연구 내용은 이러한 목표 달성을 위한 시스템 및 핵심 부품의 설계, 제작, 최적화 과정임. 기대 효과는 공정 내 불순물 실시간 감시를 통한 스퍼터 및 이온주입 공정 안정성 증가 및 생산성 향상임. 더불어 해외 경쟁사 수준의 국산 극저온 고진공 배기장치 개발로 국내 반도체 장비 산업 경쟁력 강화와 해외 시장 진출이 가능하며, 다양한 신산업 분야에 활용될 것으로 전망됨.
고진공 배기장치
불순물 농도
실시간 모니터링
스퍼터
이온주입기