한양대학교 기계공학과 김호준 교수
김호준 연구실은 반도체 및 박막 공정에서의 유동·수송과 반응을 연계해 공정 거동을 해석하는 전산모사 기반 연구를 수행합니다. 특히 plasma 환경에서의 흡착·분해·반응을 다중스케일로 모델링하고 ALD 공정의 공간적 증착 특성과 챔버 설계 변수의 영향을 규명합니다. 또한 ab-initio 기반 계면·표면 반응 메커니즘 분석을 통해 원자층 성장 특성을 설명하는 방법론을 보유하고 있으며, 데이터 기반 전기촉매 설계와 내마모 표면·코팅 특성 평가로 재료 및 공정 응용 연구도 병행합니다.