해수는 가장 환경적으로 부식성이 강한 전해질 용액이라는 특성을 지니고 있으므로, 해상 및 수중 구조물에서 이를 폭넓게 고려하면서 음극방식 보호법을 적용하는 일이 널리 보편화되어 있다. 음극방식 보호법은 부식성 금속의 표면을 분극시켜 부식 속도를 감소시키는 방식이다. 이러한 원리가 적용될 경우, 해수에 용존해 있는 이온 성분은 Mg(OH)2 및 CaCO3가 화합물을 형성함으로써 금속 표면 위에 전착된 막을 부분적으로 코팅하는 형태로 침착될 수 있다. 이러한 전착 막은 ‘석회질 침착물(calcareous deposits)’이라 불리며, 물리적 장벽 역할을 하면서 궁극적으로 음극방식 보호 전류의 밀도를 감소시켜 방청 효과를 유도한다. 그러나 한편으로는, 이러한 막은 생성되는 과정에서 주변 환경 조건뿐 아니라 침착물 구성요소의 조건에도 크게 영향을 받는데, 그 결과 막은 치밀하지도 않고 균일하지도 않다. 이 연구에서는 천연 해수에서 석회질 침착물 막을 형성하기 위해 펄스 전기전착(pulse electro-deposition) 방법을 적용하였다. 그 후 Scanning electron microscopy(SEM), 에너지 분산형 X선 분광법(EDS), X선 회절(XRD)을 사용하여 막의 구성요소와 구조를 분석하였다. 형성된 막의 양, 부착성 및 내식성은 각각 평가하여 그 유효성을 입증하였다. 본 연구는 펄스 전기전착 방법의 유효성을 검증하였고, 분석 및 평가 결과를 통해 석회질 침착물 막의 형성 메커니즘을 고려하였다. 또한 본 연구는 펄스 전류를 제어함으로써 내구성이 약했던 기존 석회질 막의 성능을 향상시킬 수 있는 가능성도 함께 확인하였다.