본 과제는 대면적 AMOLED Backplane과 고해상도 Flexible Display 구동에 쓰일 TFT를 만들기 위한 공정·소자·신뢰성 평가 기술을 개발하는 연구임. 연구 목표는 박막 특성 및 TFT 신뢰성 평가를 바탕으로 △Vth < 0.5 V, 30 cm2/Vs 이상 고이동도 TFT 구현, quatenary 산화물 조성 및 In-free ZnSnO 조성계 타겟 개발, 100℃ 이하 저온 증착 RPB-CVD/Cat-CVD 기반 Si/n+ Si 박막 공정과 inverted staggered μc-Si TFT 제작임. 기대 효과는 산화물 반도체 소재 기술로 실리콘 TFT 대체 가능성을 높여 AMOLED, HDTV, 투명전극, TFT-LCD, Flexible 디스플레이 등 제품 적용 확산 전망임.