교류형 플라즈마 디스플레이에서의 기입 방전의 특성은 셀 내부에 형성된 벽전압과 인가전압의 합에 의해 결정된다. 만약 높은 벽전압 조건에서 인가전압을 상승시키면 셀 내부에서 방전이 발생되는 전체 전압보다 높아지므로 원하지 않는 셀에서도 오방전이 발생한다. 그러므로 셀 내부에서 발생되는 전체 전압의 크기는 동일해야 하므로 벽전압의 크기는 줄이고 인가전압의 크기를 증가시키는 방법을 제시하였다. 본 연구에서는 인가전압의 크기가 벽전압보다 낮을 때와 높을 때의 기입 방전 특성을 실험하였고 문턱전압 폐곡선을 이용하여 셀내부의 인가전압과 벽전압을 측정하였다. 그 결과 외부인가전압이 벽전압보다 높을 때 기입 방전의 시간을 1.5에서 1.15 μs로 단축시킬 수 있었다.

본 연구는 안정적인 용액 플라즈마 공정을 이용하여 아르곤(Ar), 산소(O2), 및 Ar과 O2 혼합 플라즈마 작동기체 버블을 변화시키면서 1-헥사놀 알코올로부터 촉매 없이 탄소 나노물질을 합성하는 단순하고 촉매-무첨가(catalyst-free) 방법을 제시한다. 탄소 나노물질의 구조적 특성은 투과전자현미경, 라만 분광, 및 X-선 회절로 측정한다. 방전 특성은 방전 전압, 전류, 그리고 광방출 분광기(OES) 기법을 기반으로 검토한다. 용액 플라즈마 공정 동안 외부 Ar 기체 버블 방전을 사용한 경우, 기체를 사용하지 않은 경우에 비해 탄소 나노입자의 크기와 방전 전압이 감소하고 방전 전류가 증가하는데, 이는 플라즈마 에너지 증가와 플라즈마-액체 접촉 제곱의 플라즈마 부피에 대한 증대에 기인하는 것으로 해석된다. 용액 플라즈마 공정 동안 외부 O2 기체 버블 방전을 사용한 경우에는, 기체를 사용하지 않은 경우에 비해 탄소 나노입자의 크기는 증가하고 방전 전압과 전류는 감소하는데, 이는 상대적으로 많은 산소 라디칼의 생성으로 인해 화염 합성(flame synthesis)이 유도되기 때문일 수 있다. 라만 스펙트럼 결과는 용액 플라즈마 공정 동안 외부 Ar 150 및 O2 50 표준 입방센티미터/분(sccm) 혼합 기체 버블을 사용해 합성한 탄소 나노물질의 흑연화(graphitization) 정도가, Ar 또는 O2 기체 버블만을 사용해 합성한 탄소 나노물질보다 더 큼을 보여준다. 플라즈마 작동기체 혼합물을 변화시키는 본 용액 플라즈마 공정은 정밀한 나노물질 합성에 잠재적으로 활용될 수 있다.