발행물

전체 논문

166

81

기판 바이어스에 의해 증착된 고순도 구리 박막의 전기 비저항에 대한 박막두께 의존성
임재원, 0, 0, 0, 0
대한금속·재료학회지, 200510

82

Ar-H2 플라즈마 아크 용해에 의한 지르코늄 및 하프늄 금속내의 불순물 제거
임재원, 0, 0, 0
대한금속·재료학회지, 200509

83

Removal of metallic impurities from zirconium by hydrogen plasma arc melting
임재원, K. Mimura, M. Isshiki
Journal of Materials Science - 직접입력, 200508

84

질소 첨가에 의한α-Ta의 안정화 및 확산 방지막으로서의 열적 안정성
임재원, 0, 0
대한금속·재료학회지, 200507

85

Direct growth of CdTe(100) epilayers on Si(100) substrate by hot wall epitaxy
임재원, G.M. Lalev, J.F. Wang, S. Abe, K. Masumoto, M. Isshiki
Applied Surface Science - 직접입력, 200504

86

음의 기판 바이어스에 의한 탄탈 박막내의 주요불순물의 농도감소
임재원, 0
대한금속·재료학회지, 200504

87

글로우방전 질량분석법을 이용한 구리 박막내의 미량불순물 분석: 음의 기판 바이어스에 의한 불순물원소의 농도변화
임재원, 0
한국진공학회지, 200503

88

Precise impurity analysis of Cu films by GDMS: relation between negative substrate bias voltage and impurity ionization potentials
임재원, K. Mimura, M. Isshiki
Applied Physics A - 직접입력, 200502

89

Interpretation of dominant impurities in Cu films by SIMS and GDMS
임재원, 배준우, K. Mimura, M. Isshiki
Japanese Journal of Applied Physics - 직접입력, 200501

90

Trace impurity analysis in Ta films using glow discharge mass spectrometry: Concentration change of impurities by applying negative substrate bias vol
임재원, K. Mimura, M. Isshiki
Japanese Journal of Applied Physics - 직접입력, 200412