Comparative study of the electrical characteristics of ALD-ZnO thin films using H<inf>2</inf>O and H<inf>2</inf>O<inf>2</inf> as the oxidants
Lee W.-J., Bera S., Wan Z., Dai W., Bae J.-S., Hong T.E., Kim K.-H., Ahn J.-H., Kwon S.-H.
Journal of the American Ceramic Society, 2019
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Atomic Layer Deposition of Pt Thin Films Using Dimethyl (N, N-Dimethyl-3-Butene-1-Amine- N) Platinum and O<inf>2</inf> Reactant
Lee W.-J., Wan Z., Kim C.-M., Oh I.-K., Harada R., Suzuki K., Choi E.-A., Kwon S.-H.
Chemistry of Materials, 2019
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Effects of Ar Addition to O<inf>2</inf> Plasma on Plasma-Enhanced Atomic Layer Deposition of Oxide Thin Films
Jung H., Oh I.-K., Yoon C.M., Park B.-E., Lee S., Kwon O., Lee W.J., Kwon S.-H., Kim W.-H., Kim H.
ACS Applied Materials and Interfaces, 2018
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Cobalt titanium nitride amorphous metal alloys by atomic layer deposition
Nam T., Lee C.W., Cheon T., Lee W.J., Kim S.-H., Kwon S.-H., Lee H.-B.-R., Kim H.
Journal of Alloys and Compounds, 2018
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원자층 증착법에 의한 TiO2, Al2O3, 및 TiO2-Al2O3 나노라미네이트 박막이 316L Stainless Steel의 부식특성에 미치는 영향
이우재, 만지흠, 김다영, 장경수, 최현진, 최우창, 권세훈
한국표면공학회지, 2017
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ALD-Al2O3 보호층이 적용된 CrAlSiN 코팅막의 내부식성 특성에 관한 연구
만지흠, 이우재, 장경수, 최현진, 권세훈
한국표면공학회지, 2017
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원자층 증착법에 의한 TiO2, Al2O3, 및 TiO2-Al2O3 나노라미네이트 박막이 316L Stainless Steel의 부식특성에 미치는 영향
이우재, 만지흠, 김다영, 장경수, 최현진, 최우창, 권세훈
한국표면공학회, 2017
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Electrical and Corrosion Properties of Titanium Aluminum Nitride Thin Films Prepared by Plasma-Enhanced Atomic Layer Deposition
Yun E.-Y., Lee W.-J., Wang Q.M., Kwon S.-H.
Journal of Materials Science and Technology, 2017
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ALD-Al2O3 보호층이 적용된 CrAlSiN 코팅막의 내부식성 특성에 관한 연구
만지흠, 이우재, 장경수, 최현진, 권세훈
한국표면공학회, 2017
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원자층 증착법에 의한 Al2O3 박막 형성에 따른 모스아이 구조 반사방지필름의 기계적 물성에 미치는 영향