NEXT LAB은 포항공과대학교 반도체공학과를 기반으로, 극자외선(EUV) 및 X-선 기반의 첨단 나노 이미징과 패터닝 기술을 연구하는 선도 연구실입니다. 본 연구실은 고해상도, 고정밀도의 나노스케일 이미징 기술과 차세대 반도체 제조 공정에 필수적인 EUV 리소그래피, 포토레지스트 소재 개발, 그리고 X-선 분석 기술을 중심으로 다양한 융합 연구를 수행하고 있습니다. 특히, 국내 유일의 고휘도 방사광 EUV 광원 및 평가 인프라를 활용하여, EUV 레지스트, 펠리클, 마스크, 반도체 공정 분석 및 평가 등 반도체 산업의 핵심 기술 개발에 집중하고 있습니다. EUV metrology와 inspection, Synchrotron 기반 EUV 인프라 구축, EUV resist patterning, Actinic pellicle 및 mask metrology 등 다양한 세부 분야에서 혁신적인 연구를 진행하며, 국가 및 산업체와의 협력 과제를 통해 실질적인 산업적 파급효과를 창출하고 있습니다. 또한, NEXT LAB은 나노스케일 X-선 이미징 및 분석 기술 개발에도 중점을 두고 있습니다. 소재 내부 구조의 3차원 분석, 정량 분석, Nano-scale phase contrast tomography, X-ray optics, 고정밀 분석 방법 등 첨단 이미징 솔루션을 연구하며, 배터리, 신소재, 철강, 바이오 등 다양한 산업 분야에 적용하고 있습니다. 배터리 내부 구조의 3차원 분석과 화학 성분 가시화를 위한 빅데이터 이미징 기술, Spectroscopic X-ray imaging(XANES, XRF imaging), Synchrotron 기반 배터리 소재 및 시스템 분석 등은 차세대 에너지 저장장치의 성능 향상과 신뢰성 확보에 중요한 역할을 하고 있습니다. 회절 X-선 광학 및 다중 스케일 이미징 솔루션 개발 역시 NEXT LAB의 주요 연구 분야입니다. 회절 X-선 광학 기술을 기반으로 한 나노미터 해상도의 이미징, 대면적 CT 연구장비, nanometer scale resolution, High speed X-ray tomography 등 다양한 이미징 장비와 소프트웨어를 개발하여, 넓은 시야와 높은 해상도를 동시에 구현하는 다중 스케일 이미징 솔루션을 제공합니다. 이러한 기술은 반도체, 배터리, 신소재, 바이오 등 다양한 분야에서 복잡한 구조와 현상을 효과적으로 분석할 수 있게 해줍니다. NEXT LAB은 국내외 연구기관 및 산업체와의 협력을 통해 실질적인 기술 이전과 산업화에 기여하고 있으며, 특허 출원 및 논문 발표를 통해 학술적, 기술적 성과를 지속적으로 창출하고 있습니다. 앞으로도 차세대 반도체 및 나노 이미징 기술의 글로벌 리더로 도약하기 위해 혁신적인 연구와 기술 개발에 매진할 것입니다.