NEXT LAB은 극자외선(EUV) 리소그래피와 관련된 첨단 연구를 선도하고 있습니다. 본 연구실은 국내 유일의 고휘도 방사광 EUV 광원 및 평가 인프라를 활용하여, EUV 레지스트, 펠리클, 마스크, 반도체 공정 분석 및 평가에 집중하고 있습니다. 특히, EUV metrology와 inspection, Synchrotron 기반 EUV 인프라 구축, EUV resist patterning, Actinic pellicle 및 mask metrology 등 다양한 세부 분야에서 혁신적인 연구를 진행하고 있습니다. 이러한 연구는 차세대 반도체 제조 공정의 핵심 기술로, 미세 패턴 형성의 한계를 극복하고, 고해상도 및 고정밀도의 패터닝을 실현하는 데 중요한 역할을 합니다. NEXT LAB은 EUV PR 소재의 광 반응 메커니즘, 고해상도 EUV 노광 공정을 위한 포토레지스트 후보 반응기 개발, 1.5nm 노드급 해상도 EUV 리소그래피 복합 성능 평가 기술 등 다양한 국가 및 산업체 과제를 수행하며, 실질적인 산업적 파급효과를 창출하고 있습니다. 또한, 본 연구실은 EUV 리소그래피용 소재 개발뿐만 아니라, 노광 특성 평가, 마스크 오염 및 성능 저하 원인 분석, 공정 최적화 등 반도체 산업의 전주기적 기술 혁신을 목표로 하고 있습니다. 이를 통해 국내외 반도체 산업의 경쟁력 강화와 미래 기술 선도에 기여하고 있습니다.

NEXT LAB은 나노스케일 X-선 이미징 및 분석 기술 개발에 중점을 두고 있습니다. 소재 내부 구조의 3차원 분석과 정량 분석을 위한 나노스케일 이미징 기술, Nano-scale phase contrast tomography, X-ray optics, 고정밀 분석 방법 등 다양한 첨단 이미징 솔루션을 연구하고 있습니다. 이를 통해 소재의 미세 구조와 화학적 특성을 정밀하게 파악할 수 있으며, 신소재 개발 및 배터리, 반도체 등 다양한 산업 분야에 적용하고 있습니다. 특히, 배터리 내부 구조의 3차원 분석과 화학 성분 가시화를 위한 빅데이터 이미징 기술, Spectroscopic X-ray imaging(XANES, XRF imaging), Synchrotron 기반 배터리 소재 및 시스템 분석 등은 차세대 에너지 저장장치의 성능 향상과 신뢰성 확보에 중요한 역할을 하고 있습니다. 또한, 대면적 CT 연구장비, 고해상도 엑스선 3차원 분석 솔루션, 인공지능 기반 토모그래피 솔루션 등 다양한 연구 장비와 소프트웨어를 개발하여 산업 현장에 실질적으로 적용하고 있습니다. 이러한 연구는 나노구조 분석, 공정 개재물의 성분 및 분포 분석, 철강 소재 및 공정 분석, 리튬 배터리의 실시간 충방전 메커니즘 규명 등 다양한 응용 분야에서 혁신적인 성과를 창출하고 있습니다. NEXT LAB은 X-선 이미징 분야에서 세계적인 연구 경쟁력을 확보하고 있으며, 미래 산업의 핵심 기반 기술을 제공하고 있습니다.

NEXT LAB은 회절 X-선 광학 및 다중 스케일 이미징 솔루션 개발에 있어 독보적인 역량을 보유하고 있습니다. 회절 X-선 광학 기술은 나노미터 해상도의 이미징을 가능하게 하며, 3차원 구조 분석과 동적 현상 관찰에 필수적인 도구로 자리매김하고 있습니다. 본 연구실은 diffractive X-ray optics, imaging technology, 3D imaging, synchrotron analytical techniques 등 다양한 첨단 기술을 융합하여, 소재 및 디바이스의 미세 구조와 동작 특성을 정밀하게 분석하고 있습니다. 이와 함께, 대면적 CT 연구장비와 nanometer scale resolution, High speed X-ray tomography 등 다양한 이미징 장비를 개발하여, 넓은 시야와 높은 해상도를 동시에 구현하는 다중 스케일 이미징 솔루션을 제공합니다. 이러한 기술은 반도체, 배터리, 신소재, 바이오 등 다양한 분야에서 복잡한 구조와 현상을 효과적으로 분석할 수 있게 해줍니다. NEXT LAB의 회절 X-선 광학 및 다중 스케일 이미징 연구는 국내외 연구기관 및 산업체와의 협력을 통해 실질적인 기술 이전과 산업화에 기여하고 있습니다. 또한, 특허 출원 및 논문 발표를 통해 학술적, 기술적 성과를 지속적으로 창출하며, 차세대 이미징 기술의 글로벌 리더로 도약하고 있습니다.