주요 특허
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주쇄 절단형 고불소화 고분자 포토레지스트 및 그 제조방법
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등록출원연도
2022출원번호
1020220060715실리콘 함유 고불소화 고분자 포토레지스트 및 이를 이용한 유기전자소자의 제조방법
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2021출원번호
1020210176685고불소화 고분자 포토레지스트 및 이를 이용한 유기전자소자의 제조방법
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2020출원번호
1020200108556스피로피란 구조를 포함하는 고불소화 고분자 포토레지스트 및 이를 이용한 유기전자소자의 제조방법
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2019출원번호
1020190087720고불소계 용제로 가공이 가능한 고불소화 포지티브형 포토레지스트 및 이를 이용한 유기전자소자의 제조방법
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2017출원번호
1020170127424