주요 특허
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포토레지스트용 조성물 및 이를 이용하는 유기 반도체 제조 공정
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등록출원연도
2023출원번호
1020230169402주쇄 절단형 고불소화 고분자 포토레지스트, 이의 제조방법 및 이의 용도
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등록출원연도
2023출원번호
1020230066331주쇄 절단형 고불소화 고분자 포토레지스트 및 그 제조방법
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2022출원번호
1020220060715실리콘 함유 고불소화 고분자 포토레지스트 및 이를 이용한 유기전자소자의 제조방법
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2021출원번호
1020210176685고불소화 고분자 포토레지스트 및 이를 이용한 유기전자소자의 제조방법
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2020출원번호
1020200108556