o 6,000ppi급 초고해상도 OLEDoS용 포토리소그래피 기반 RGB 자발광 프런트 플레인 패터닝 및 패널 기술 개발o 포토리소그래피 기반 6,000ppi 대응 RGB 자발광 소자 구현을 위한 소재 기술 및 공정 기술 개발o 초고해상도 대응 PDL 소재 기술 및 공정 기술개발o CMOS 백플레인 공정 대응 기술 개발o 포토리소그래피 기반 초미세-고휘도 ...

1. 화학적 침해성이 억제된 포토리소그래피 공정개발을 위한 소재 개발 계속2. 포토리소그래피 공정에서의 내구성을 지닌 유기발광소재의 확보: 전자수송층 소재의 화학 구조 다변화3. OLED화소 형성을 위한 PDL 해상도 향상4. 포토리소그래피를 통한 패턴화소의 형성 공정 개발5. 레퍼런스 소자 및 패턴 소자의 성능/수명 평가 플랫폼 평가1. 패턴 정밀도 (...

본 과제는 포토리소그래피 패터닝 기술을 OLED 화소 형성에 적용해, 고해상도·고내구 패턴 공정을 실현하기 위한 연구임. 연구 목표는 micrometer 패턴 정밀도 10/10(10μm급), 소자효율저하 20% 이하, 소자수명감소율 50% 이하 달성임. 핵심 연구 내용은 화학적 침해성이 억제된 포토리소그래피용 고불소화 PR소재 최적화, ETL 전자수송층의 화학 구조 최적화, PDL 해상도 향상 및 표면처리, 포토리소그래피 패턴화소 형성 공정 확립, 레퍼런스·패턴 소자 효율/수명 평가임. 기대 효과는 OLED 화소 형성공정 적용 타당성 검증 및 고해상도 포토레지스트 시스템 확보로 연관 산업 확장 가능성 제시임.

본 과제는 OLED 패널 제작을 위한 포토리소그래피 공정 소재·기판·패턴 구현·성능 평가 플랫폼을 개발하는 연구임. 연구목표는 화학적 침해성이 억제된 포토리소그래피 공정용 소재 확보, 내구성을 지닌 유기발광소재 확보, OLED화소 형성을 위한 기판소재 확보, 포토리소그래피 패턴화소 형성, 레퍼런스 소자 및 패턴 소자의 성능/수명 평가 플랫폼 구축임. 핵심 연구내용은 불소계·수계 용제 선정과 고불소화 PR소재 설계, 고불소화 증착형 보호층 개념, ETL 재료 개발, 10 μm급 PDL 제작, 인광녹색 패턴 Line/Space 10μm/10μm 구현, 5000 nit 기준 패턴소자 효율저하 50% 이내 및 수명평가 수행임. 기대효과는 3년 연구 기반 마련과 참여기관 협력 플랫폼 구축, 목표 달성을 위한 문제점 파악 및 소자 수명 확보 방안의 사전 검토임.