주요 특허
균일 자기장 형성 시스템
상태
등록출원연도
2025출원번호
1020250133328전기장의 균일성을 향상시키는 도파관
상태
등록출원연도
2025출원번호
1020250118685넓은 임피던스 대역을 갖는 플라즈마 소스 및 이를 포함하는 플라즈마 발생 장치
상태
등록출원연도
2025출원번호
1020250033350균일 자기장 형성 시스템
상태
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2024출원번호
1020240141331전자 센서 및 전자 센서의 제조 방법
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2024출원번호
1020240009979