A Study on Improvement of Luminous Efficacy in AC PDP with Open Dielectric Structure
박정후, 김동현, 이호준, 이해준, 이대성, 옥정우
IDW, 200411
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Electric field in a magnetized inductively coupled plasma
10057301
IEEE Transactions on Plasma Science, 199904
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축 방향 자장이 인가된 용량 결합형 라디오 주파수 플라즈마의 특성 연구
10057301
대한전기학회 추계학술대회 논문집, 199901
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헬리칼 공명 플라즈마에서 축 방향의 외부자장이 기판상의 플라즈마 밀도에 미치는 영향
10057301
한국진공학회지, 199901
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평판유도결합형 CH4/H2/Ar 플라즈마를 이용한 GaN 건식식각 특성
10057301
전기학회논문지, 199901
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글로벌 모델에 의한 CF4 플라즈마에서의 라디칼 및 이온 밀도 계산
10057301
한국진공학회지, 199807
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Observations of Silicon Surfaces Exposed to Inductively Coupled CHF3 and C4F8/H2 Plasmas Using Fourier Transform Infrared Ellipsometry
10057301
Jpn. J. Appl. Phys., 199804
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Selective SiO2/Si3N4 etching in magnetized inductively coupled C4F8 plasma
10057301
Journal of Vacuum Science & Technology B, 199804
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Investigations of the surface chemistry of silicon substrates etched in a rf-biased inductively coupled fluorocarbon plasma using Fourier-transform infrared ellipsometry
10057301
Journal of Vacuum Science & Technology A, 199804