인하대학교 재료합성연구실은 고분자공학 분야에서 정보 및 전자용 고분자 소재의 혁신적인 개발을 목표로 다양한 연구를 수행하고 있습니다. 본 연구실은 고분자 재료의 분자 설계, 합성, 그리고 이들의 전기적, 광학적 특성 제어를 통해 차세대 전자소자 및 정보기술 응용에 적합한 고성능 소재를 창출하는 데 중점을 두고 있습니다. 특히, 고분자 반도체, 전도성 고분자, 기능성 고분자 복합체 등 다양한 고분자 기반 소재의 합성과 특성 평가를 통해 새로운 전자소자 구현에 필요한 핵심 기술을 확보하고 있습니다. 연구실의 또 다른 핵심 연구 분야는 극자외선(EUV) 및 전자빔 리소그래피용 고불소화 고분자 포토레지스트 소재 개발입니다. 고불소화 고분자는 뛰어난 화학적 안정성과 우수한 용해 특성을 바탕으로, 미세 패턴 형성에 필수적인 고해상도, 저잔류, 저손상 특성을 동시에 구현할 수 있습니다. 연구실에서는 다양한 불소화 고분자 및 단분자 레지스트의 합성, 감광 특성 평가, 패턴 형성 메커니즘 분석 등 전주기적 연구를 수행하고 있으며, 이를 통해 반도체, 디스플레이, 마이크로 OLED 등 첨단 소자 제조 공정에서 요구되는 미세 패턴 기술을 실현하고 있습니다. 이외에도, 연구실은 고분자 기반의 유연 전자소자, 고유전율 절연체, 고성능 투명 전극, 바이오센서, 마이크로/나노 패터닝 등 다양한 응용 분야에서 우수한 성능을 보이는 소재와 공정 기술을 개발하고 있습니다. 고분자 소재의 대량 합성 및 공정 최적화, 산업적 응용을 위한 신뢰성 평가에도 힘쓰며, 산학연 협력 및 기술이전에도 적극적으로 참여하고 있습니다. 연구실은 다수의 특허 출원 및 기술이전, 국내외 학술지 논문 발표, 산학협력 프로젝트 수행을 통해 고분자 소재 및 포토레지스트 분야의 기술적 혁신을 선도하고 있습니다. 또한, 차세대 반도체 및 디스플레이 산업의 고집적화, 고해상도화 요구에 대응하기 위한 신소재 및 공정 기술 개발에 지속적으로 매진하고 있습니다. 이러한 연구 성과는 국내외 정보전자 산업의 발전에 크게 기여하고 있으며, 미래 첨단 소재 및 소자 기술의 글로벌 경쟁력 확보를 위한 중요한 기반이 되고 있습니다. 앞으로도 인하대학교 재료합성연구실은 창의적이고 도전적인 연구를 통해 고분자공학 및 정보전자 소재 분야의 새로운 패러다임을 제시할 것입니다.