실리콘 함유 고불소화 고분자 포토레지스트 및 이를 이용한 유기전자소자의 제조방법

연속 흐름 반응 공정을 이용한 자외선 리소그래피용 포토레지스트 고분자 및 이의 제조방법

주쇄 절단형 고불소화 고분자 포토레지스트 및 그 제조방법

고굴절 화합물과 이를 포함하는 절연막, 광 추출 필름, 유기발광 소자 및 유기발광 장치

포토리소그래피용 언더레이어 조성물, 이를 이용하여 형성된 다층 구조 및 이를 이용한 반도 체 소자의 제조방법

포토리소그래피용 레지스트 화합물, 이의 제조방법 및 이를 이용한 반도체 소자의 제조방법

복합 폴리이미드 필름, 그 제조 방법, 및 이를 이용한 인쇄 회로 기판

레지스트 조성물 및 이를 사용한 패턴 형성 방법(Resist compound and method of forming pattern using the same)

신규 화합물 및 이를 포함하는 극자외선용 포토레지스트 조성물(Novel compounds and extreme ultraviolet photoresist composition containing the same)

고불소화 고분자 포토레지스트 및 이를 이용한 유기전자소자의 제조방법(Highly fluorinated polymer photoresist and method for manufacturing organic electronic device using the same)