특허 출원중 비공개

특허 비공개

고불소화 공중합체와 고불소계 용제를 이용한 적색 안료 분산체 및 이를 이용한 포토패터닝 방법(Red pigment dispersion using highly fluorinated copolymers and fluorous solvents, and photo-patterning method

레지스트 화합물, 이를 사용한 패턴 형성 방법, 및 이를 사용한 반도체 소자 제조 방법(Resist compound, method of forming pattern using the same, and method of manufacturing semiconductor device using the

스피로피란 구조를 포함하는 고불소화 고분자 포토레지스트 및 이를 이용한 유기전자소자의 제조방법(Highly fluorinated polymer photoresist containing a spiropyran unit and method for manufacturing organic

고불소화 공중합체 및 고불소계 용제를 이용한 안료 분산체 및 이를 이용한 포토패터닝 방법(Pigment dispersion using highly fluorinated copolymers and fluorous solvents, and photo-patterning method using

생체 적합성 유기용매를 사용하여 제조된 양친성 하이드로젤-패브릭 복합체 지혈 상처 드레싱(Amphiphilic hydrogel-fabric composite hemostatic wound dressings prepared by utilizing a biocompatible organic

고불소계 용제에 용해성을 가지는 고불소화 고분자를 포함하는 레지스트 재료(Resist materials comprising highly fluorinated polymers having a solubility in highly fluorinated solvents)

고불소계 용제에 용해성을 가지는 고불소화 단분자 포토레지스트 및 고불소화 아민 유도체를 이용한 포지티브형 포토레지스트의 제조

포토레지스트용 스트리퍼 조성물 및 이를 이용한 표시장치의 제조방법(STRIPPER COMPOSITION FOR PHOTORESIST AND METHOD FOR MANUFACTURING OF DISPLAY DEVICE USING THE SAME)