CMP 및 포스트-CMP 세정에서 PVA 브러시의 슬러리·금속이온 오염과 교차오염을 정량 평가하고 제거 공정을 최적화하는 연구
CMP 및 포스트-CMP 세정 조건에서 벤조트리아졸·계면활성제·폴리머 억제제의 흡착 기반 부식 억제 메커니즘을 규명하는 연구
할라이드 염 기반 습식 용액에서 InGaAs 표면을 나노스케일로 에칭·폴리싱하고 표면 거칠기와 화학 상태를 제어하는 연구