이효종 교수 연구실
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보이드 발생이 방지되는 금속배선구조 및 금속배선방법(Metal Interconnection for avoiding void and method for fabricating the same)
10-0555513-0000
2006.02
이미지 센서의 해상도 향상 방법(Method of Increasing Resolution of Image Sensor)
10-2006-0002651
2006.01
반도체 소자의 배선 형성방법(Method of Forming Interconnection Lines in a Semiconductor Device)
10-0541051-0000
2005.12
화학적 기계적 연마 방법(Method of Chemical Mechanical Polishing)
10-0536611-0000
2005.12
Inductor for a System-On-a-Chip and Method of Manufacturing the Same
1624916
2005.06
Inductor and Method for Manufacturing the Same
1530226
2005.05
금속배선의 상부영역에 합금막을 갖는 반도체 소자의 제조방법들(Methods of Fabricating a Semiconductor Device Comprising Alloy Layers on Upper Regions of Metal Wires)
10-2005-0030709
2005.03
Method of Forming Metal Pattern Using Selective Electroplating Process
20050070090
2005.03
Metal Wiring Structure and Metal Wiring Method for Preventing Production of Void
2005057277
2005.03
화학적 기계적 연마장치의 헤드압력조절장치 및헤드압력조절방법 (Head Pressure Adjustment Apparatus of Chemical Mechanical Polishing Apparatus and the Head Pressure Adjustment Method Thereof)
10-2005-0008231
2005.01
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