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상태	출원연도	과제명	출원번호
등록	2016	플라즈마의 정보 획득 시스템 및 방법	1020160111719
등록	2016	플라즈마 공정용 챔버 내부 관리 시스템	1020160111029
등록	2009	이종 적층형 박막 태양전지 및 그 제조방법	1020090098553
등록	2009	태양전지 모듈	1020090097041
등록	2006	대량생산을 위한 기판처리시스템과 이를 이용한기판처리방법	1020060047958

주요 특허

플라즈마의 정보 획득 시스템 및 방법

상태

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출원연도

2016

출원번호

1020160111719

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플라즈마 공정용 챔버 내부 관리 시스템

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출원연도

2016

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1020160111029

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이종 적층형 박막 태양전지 및 그 제조방법

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2009

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1020090098553

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태양전지 모듈

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2009

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대량생산을 위한 기판처리시스템과 이를 이용한기판처리방법

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2006

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1020060047958

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주요 특허

상태	출원연도	과제명	출원번호	상세정보

주요 특허

전체 특허

상태	출원연도	과제명	출원번호
등록	2024	열 스트레스 저감을 위한 정전척 온도 제어 방법	1020240199300
등록	2023	측벽보호층을 이용한 플라즈마 식각 방법	1020230027041
등록	2023	Low-GWP 가스를 이용한 플라즈마 식각 방법	1020230027039
등록	2023	고주파 급전 경로를 확보하기 위한 반도체 제조 시스템의 극저온 정전척 장치	1020230027249
등록	2023	식각 처리 장치의 동작 방법	1020230027040

전체 특허

열 스트레스 저감을 위한 정전척 온도 제어 방법

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출원연도

2024

출원번호

1020240199300

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측벽보호층을 이용한 플라즈마 식각 방법

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출원연도

2023

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1020230027041

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Low-GWP 가스를 이용한 플라즈마 식각 방법

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출원연도

2023

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1020230027039

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고주파 급전 경로를 확보하기 위한 반도체 제조 시스템의 극저온 정전척 장치

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2023

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1020230027249

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식각 처리 장치의 동작 방법

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태양전지 모듈

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대량생산을 위한 기판처리시스템과 이를 이용한기판처리방법

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등록	2024	열 스트레스 저감을 위한 정전척 온도 제어 방법	1020240199300
등록	2023	측벽보호층을 이용한 플라즈마 식각 방법	1020230027041
등록	2023	Low-GWP 가스를 이용한 플라즈마 식각 방법	1020230027039
등록	2023	고주파 급전 경로를 확보하기 위한 반도체 제조 시스템의 극저온 정전척 장치	1020230027249
등록	2023	식각 처리 장치의 동작 방법	1020230027040

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열 스트레스 저감을 위한 정전척 온도 제어 방법

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측벽보호층을 이용한 플라즈마 식각 방법

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Low-GWP 가스를 이용한 플라즈마 식각 방법

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고주파 급전 경로를 확보하기 위한 반도체 제조 시스템의 극저온 정전척 장치

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식각 처리 장치의 동작 방법

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