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노용영 연구실
포항공과대학교 화학공학과
노용영 교수
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노용영 연구실

포항공과대학교 화학공학과 노용영 교수

노용영 연구실은 정보전자용 고분자와 차세대 반도체 소재를 기반으로 p형 박막 트랜지스터, 할라이드·페로브스카이트 반도체, 유연·대면적 전자소자 및 상보형 회로를 연구하며, 저온 공정과 산업 친화적 제조 기술을 통해 디스플레이, 집적회로, 광전자소자에 적용 가능한 고성능 전자재료와 소자 플랫폼을 개발하고 있다.

대표 연구 분야
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차세대 p형 박막 트랜지스터용 반도체 소재 개발 thumbnail
차세대 p형 박막 트랜지스터용 반도체 소재 개발
주요 논문
5
논문 전체보기
1
article
|
hybrid
·
인용수 0
·
2025
Author Correction: Vapour-deposited high-performance tin perovskite transistors
Youjin Reo, Taoyu Zou, Taesu Choi, Soonhyo Kim, Ji‐Young Go, Taewan Roh, Hyukhyun Ryu, Yong‐Sung Kim, Ao Liu, Huihui Zhu, Yong‐Young Noh
IF 40.9
Nature Electronics
https://doi.org/10.1038/s41928-025-01394-2
Tin
Materials science
Perovskite (structure)
Optoelectronics
Engineering physics
Metallurgy
Chemical engineering
Engineering
2
article
|
hybrid
·
인용수 21
·
2025
Vapour-deposited high-performance tin perovskite transistors
Youjin Reo, Taoyu Zou, Taesu Choi, Soonhyo Kim, Ji‐Young Go, Taewan Roh, Hyukhyun Ryu, Yong‐Sung Kim, Ao Liu, Huihui Zhu, Yong‐Young Noh
IF 40.9
Nature Electronics
Solution-processed tin (Sn2+)-halide perovskites can be used to create p-channel thin-film transistors (TFTs) with performance levels comparable with commercial low-temperature polysilicon technology. However, high-quality perovskite film deposition using industry-compatible production techniques remains challenging. Here we report the fabrication of p-channel Sn2+-halide perovskite TFTs using a thermal evaporation approach with inorganic caesium tin iodide (CsSnI3). We use lead chloride (PbCl2) as a reaction initiator that triggers solid-state reactions of the as-evaporated perovskite compounds. This promotes the conversion of dense and uniform perovskite films, and also modulates the intrinsically high hole density of the CsSnI3 perovskite channels. Our optimized TFTs exhibit average hole field-effect mobilities of around 33.8 cm2 V−1 s−1, on/off current ratios of around 108, and large-area fabrication uniformity. The devices also exhibit improved stability compared with solution-deposited devices. Using a thermal evaporation approach and lead chloride (PbCl2) as a reaction initiator, caesium tin iodide (CsSnI3)-based p-channel thin-film transistors can be fabricated that exhibit average hole field-effect mobilities of around 33.8 cm2 V−1 s−1 and improved stability compared with solution-deposited devices.
https://doi.org/10.1038/s41928-025-01380-8
Tin
Materials science
Perovskite (structure)
Optoelectronics
Metallurgy
Chemical engineering
Engineering
3
erratum
|
hybrid
·
인용수 0
·
2025
Author Correction: Selenium-alloyed tellurium oxide for amorphous p-channel transistors
Ao Liu, Yong‐Sung Kim, Min Gyu Kim, Youjin Reo, Taoyu Zou, Taesu Choi, Sai Bai, Huihui Zhu, Yong‐Young Noh
IF 48.5
Nature
https://doi.org/10.1038/s41586-025-09667-8
Amorphous solid
Tellurium
Oxide
Transistor
Thin-film transistor
정부 과제
23
과제 전체보기
1
2025년 10월-2028년 10월
|30,000,000
주석 기반 페로브스카이트를 이용한 근적외선 광원 개발
● 본 연구는 Instituto Italiano di Tecnologia(IIT)이 특화되어 있는 광특성분석, LED 기술과 POSTECH이 특화되어 있는 열증착 공정, 도핑, TFT 기술을 서로 공유하여 소재 설계부터 소자 제작까지 전 공정에 피드백을 적용함으로써 국제 공동연구로만 달성 가능한 높은 성능과 재현성을 가진 페로브스카이트 기반 근적외선 영역 ...
페로브스카이트
열증착
근적외선영역
발광다이오드
발광트랜지스터
2
2023년 4월-2028년 1월
|469,470,000
저온공정 고성능 p형 반도체 소재 및 트랜지스터 개발
신개념 P-오비탈 정공 전도형 고이동성 P형 반도체 소재 및 트랜지스터 회로 개발
p형 반도체
텔루륨 옥사이드
박막 트랜지스터
텔루륨
저온 박막공정
3
2023년 4월-2028년 1월
|428,000,000
저온공정 고성능 p형 반도체 소재 및 트랜지스터 개발
신개념 P-오비탈 정공 전도형 고이동성 P형 반도체 소재 및 트랜지스터 회로 개발
p형 반도체
텔루륨 옥사이드
박막 트랜지스터
텔루륨
저온 박막공정
최신 특허
특허 전체보기
상태출원연도과제명출원번호상세정보
공개2025p형 텔루륨 옥사이드 반도체층을 포함하는 메모리 셀 및 그의 제조방법1020250064622
공개2024h-BN 및 2D 물질 표면에 생성된 페로브스카이트 복합체, 그를 포함하는 전자소자 및 그의 제조방법1020240167579
공개2024스퍼터링을 이용한 텔루륨 옥사이드 박막 및 박막 트랜지스터의 제조방법1020240163260
전체 특허

p형 텔루륨 옥사이드 반도체층을 포함하는 메모리 셀 및 그의 제조방법

상태
공개
출원연도
2025
출원번호
1020250064622

h-BN 및 2D 물질 표면에 생성된 페로브스카이트 복합체, 그를 포함하는 전자소자 및 그의 제조방법

상태
공개
출원연도
2024
출원번호
1020240167579

스퍼터링을 이용한 텔루륨 옥사이드 박막 및 박막 트랜지스터의 제조방법

상태
공개
출원연도
2024
출원번호
1020240163260