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권혁준 연구실
대구경북과학기술원 전기전자컴퓨터공학과 권혁준 교수
레이저 공정
저온 공정
금속 산화물 반도체
기본 정보
연구 분야
프로젝트
논문
구성원

권혁준 연구실

대구경북과학기술원 전기전자컴퓨터공학과 권혁준 교수

권혁준 연구실은 반도체 공정과 전자 소자 제작에서 레이저를 열원으로 활용하는 공정 제어 기술을 중심으로 연구를 수행합니다. 금속 산화물 반도체의 도핑 및 결함 상태를 레이저 조사 조건과 연계해 조절하는 방향으로 기술을 축적하고, 2차원 물질을 활용한 저온 공정 기반 트랜지스터 개발을 진행합니다. 동시에 MEMS/나노 및 마이크로/나노 열전달, 열처리기술, Temperature Measurement을 공정 최적화에 활용합니다. 광열 공정 기반 전자코 감지재 구현과 생성형 AI 후각 변환기 같은 바이오 임바디드 응용으로 확장하며, 6인치 Si CMOS 설계검증 플랫폼과 융합디바이스 제작 플랫폼을 통해 제작 재현성 확보를 지원합니다.

레이저 공정저온 공정금속 산화물 반도체도핑 제어이차원 물질
대표 연구 분야
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레이저 기반 금속산화물 반도체 도핑 및 저온 2차원 트랜지스터 공정 thumbnail
레이저 기반 금속산화물 반도체 도핑 및 저온 2차원 트랜지스터 공정
Laser-assisted metal-oxide doping and low-temperature 2D transistor process
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연구 성과 추이
표시된 성과는 수집된 데이터 기준으로 산출되며, 일부 차이가 있을 수 있습니다.

5개년 연도별 논문 게재 수

23총합

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최신 논문
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2026
Laser‐Induced Oxygen Engineering for Localized Homojunction Formation in SnS 2 Photodetectors
Ji-Eun Lee, Junil Kim, Young‐Jun Sim, Byeongmoon Lee, Jae Eun Jang, Hyuk‐Jun Kwon
IF 7.2 (2026)
Advanced Optical Materials
2D 재료에 기반한 고성능 광전자 소자의 개발은 상당한 관심을 끌고 있다. 그러나 기존의 수직 적층 방법은 복잡한 공정과 계면 결함에 의해 제한된다. 이러한 문제를 극복하기 위해, 단일 n형 황화주석(주석 이황화물, SnS 2 ) 플레이크 내에서 직접 레이저 조사를 통해 in-plane 동종접합(in-plane homojunction)을 형성하는 간단하고 효율적인 1단계 공정을 제안한다. 핵심 공정인 산화 박막화(oxidative thinning)는 집광된 532 nm 레이저를 사용하여 SnS 2 의 일부를 국소적으로 산화주석(SnO x )으로 전환한다. 그 결과, 약 0.7 eV의 일함수(work-function) 차이에 기인한 에너지 장벽이 계면에 형성되어 광생성 전자-정공 쌍의 분리를 촉진한다. 제작된 포토디텍터는 빠른 응답 시간(τ r /τ f = 474/299 ms)을 보이며, 이는 원래의 SnS 2 소자에 비해 수십 배 수준으로 향상된 것이다. 또한 높은 책임률(responsivity, R) 703 mA W −1 , 외부 양자 효율(external quantum efficiency, EQE) 170%, 탁월한 비검출도(specific detectivity, D * ) 2.35 × 10 14 Jones를 나타내며, 더불어 우수한 작동 안정성을 보인다. 본 연구에서 제시한 레이저 유도 국소 전환 기술은 차세대 유연하고 웨어러블(wearable) 광전자 소자를 개발하기 위한 강력하고 실용적인 플랫폼을 제공할 수 있다.
https://doi.org/10.1002/adom.202503240
Homojunction
Responsivity
Photodetector
Stacking
Quantum efficiency
Laser
Indium tin oxide
Tin
Specific detectivity
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2025
High-Resolution Patterning of Breathable Polymer Nanomesh via Double-Side UV Exposure for Fabricating Micropatterned Wearable Devices
Jihoon Bae, Chong‐Myeong Song, Sathish Kumar Ponnaiah, Gain Jang, Hyeokjoo Choi, Sieun Hwang, Juhee Shin, Seok Hwan Kim, Jung-Yun Do, Mijin Kim, Yeon Woo Kim, CheolGi Kim, Chun‐Yeol You, Yuho Min, Jong Wook Roh, Hyuk‐Jun Kwon, Sungwon Lee
IF 16 (2025)
ACS Nano
그들은 다양한 선 폭과 길이에 걸쳐 일관된 전도도를 유지하며, 높은 재현성을 보여준다. 기계적 시험은 굽힘, 접힘, 비틀림을 포함하는 상당한 변형 하에서도 탁월한 내구성을 확인하였다. 또한 다공성 구조는 AgNW 증착 이후에도 통기성을 유지하여 가스 및 수분 투과성을 보존하였다. MPNE의 다양성은 지문형 전극(interdigitated electrodes), 다중전극 배열(multielectrode arrays), 코일 안테나(coil antennas)와 같은 복잡한 패턴을 제작함으로써 입증되었다. 이러한 결과는 고도화된 웨어러블 전자기기와 다기능 장치에 대한 MPNE의 잠재력을 시사한다.
https://doi.org/10.1021/acsnano.4c18934
Nanomesh
Materials science
Nanotechnology
Polymer
Wearable technology
Wearable computer
High resolution
Optoelectronics
Graphene
Computer science
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2025
High-Performance Monolithic 3D CMOS Enabled by Orientation-Aligned Seedless Laser Crystallization and Ultra-Shallow Laser Activation
Jongyoun Park, Heejae Jeong, Euyjin Park, Geuntae Park, Chung-hyun Ahn, Sangsu Lee, Jiwoo Won, Hyuk‐Jun Kwon, Hyun‐Yong Yu
본 연구에서는 시드 없는 결정화 공정을 이용하여 M3D 상부층에서 PSLC Si 기반 CMOS 소자를 시연한다. 레이저 결정화는 단일 배향 Si 채널을 형성하며 ( 결정립 크기), 캐리어 이동도를 향상시킨다. 레이저 S/D 활성화는 400 °C 이하에서 낮은 접촉 저항률 를 달성하여 M3D 제약 조건을 만족한다. PSLC-Si CMOS 소자는 높은 와 함께 \mathrm{I}_{\text{ON}}/\mathrm{I}_{\text{OFF}} > 10^{8}을 나타낸다. CMOS 인버터는 명확한 스위칭 천이를 보이며, M3D 로직 응용을 위한 실현 가능성을 확인한다. 이러한 결과는 M3D 집적 논리 소자를 위한 완전 레이저 기반 공정의 잠재력을 검증한다. 키워드: 단일체 3D(Monolithic 3D, M3D), 패턴형 시드 없는 레이저 결정화(Patterned Seedless Laser-Crystallization, PSLC), Si, 레이저 활성화, 이동도
https://doi.org/10.23919/vlsitechnologyandcir65189.2025.11075072
Crystallization
Materials science
Laser
CMOS
Optoelectronics
Laser scanning
Engineering
Optics
최신 정부 과제
34
과제 전체보기
1
2025년 8월-2026년 8월
|64,940,000
CMOS 및 3차원 단일 집적을 위한 광파장 기반 저온 공정을 통한 초저전력 신소자(IBS NCFET) 개발
본 연구는 소자의 집적도 향상을 위한 3차원 적층 구조와 기존 CMOS와 공정 연계가 가능한 저온(<450℃) 공정을 개발하고 이를 기반으로 기존 MOSFET 소자의 공정에서의 한계점 극복 및 전력 소모 해결을 위한 차세대 초저전력 신소자인 IBS NCFET으로의 응용을 최종 목표로 함.
저온 공정
초저전력
3차원 단일 집적
고립된 밴드 구조
이차원 물질
2
2025년 6월-2029년 12월
|1,800,000,000
(InnoCORE) 바이오 체화형 피지컬 AI 연구단(DGIST)
○ AI+S&T 분야의 국내외 최우수 포닥을 집중 유치·양성하여, 신뢰성 강화 바이오 체화형 인공지능이라는 신규 융합 분야에 특화된 차세대 연구인력 기반을 구축.○ DGIST-KAIST-GIST-UNIST-서울대 등 다(多)과기원 협력체계와 지역 전략거점(대구 수성 알파시티 등)을 연계하여, 바이오-로봇-AI-NPU를 아우르는 실질적 융합연구 생태계를 조성...
최고급 포닥
신뢰성 강화
상리공생
바이오 임바디드
인공지능
3
2025년 3월-2025년 12월
|35,000,000
복잡 환경에서의 선택적 가스 감지를 위한 금속유기구조체가 코팅된 광열공정 기반 촉매나노입자-그래핀 센서 감지 재료 개발
이산화질소(NO2)는 심혈관계 및 호흡기 질환에 치명적이며, 이에 WHO에서는 노출한계를 ~5 ppb로 제시하고 있음. 그러나 ppb 수준의 민감도를 가지는 동시에, 습도 및 교란가스에 대해 효과적으로 선택성을 가지는 감지 재료에 대한 연구는 아직 이루어지지 않은 상황임.본 연구는 “선택적 NO2 감지를 위한 금속유기구조체 (MOF) 코팅된 촉매나노입자-그...
전자코
광열공정
금속-유기구조체
레이저-유도 그래핀
세륨산화물
이산화질소
최신 특허
특허 전체보기
상태출원연도과제명출원번호상세정보
등록2025금속 산화물 반도체의 제조방법, 이를 통해 제조된 금속 산화물 반도체1020250098023
등록2023N형 도펀트의 도핑 방법 및 이를 이용하여 제조된 N형 도펀트가 도핑된 기판, 이를 이용한 트랜지스터의 제조 방법 및 이를 포함하는 트랜지스터1020230196020
공개2023시드층의 제조 방법 및 이를 이용하여 제조된 시드층, 이를 포함하는 전이금속 디칼코게나이드 층의 제조 방법 및 이를 이용하여 제조된 전이금속 디칼코게나이드 층1020230156155
전체 특허

금속 산화물 반도체의 제조방법, 이를 통해 제조된 금속 산화물 반도체

상태
등록
출원연도
2025
출원번호
1020250098023

N형 도펀트의 도핑 방법 및 이를 이용하여 제조된 N형 도펀트가 도핑된 기판, 이를 이용한 트랜지스터의 제조 방법 및 이를 포함하는 트랜지스터

상태
등록
출원연도
2023
출원번호
1020230196020

시드층의 제조 방법 및 이를 이용하여 제조된 시드층, 이를 포함하는 전이금속 디칼코게나이드 층의 제조 방법 및 이를 이용하여 제조된 전이금속 디칼코게나이드 층

상태
공개
출원연도
2023
출원번호
1020230156155

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