다성분계 유전막을 구비한 반도체 장치 제조방법(METHOD FOR PREPARATION SEMICONDUCTOR DEVICE WITH MULTI-COMPONENT DIELECTRIC LAYER)

반도체 장치 및 그 제조방법(SEMICONDUCTOR DEVICE AND METHOD FOR FABRICATING THE SAME)

다성분계 박막의 형성방법(METHOD FOR PREPARING MULTI-COMPONENT THIN FILM)

티타늄질화막 하부전극을 구비하는 반도체장치 및 그 제조 방법(SEMICONDUCTOR DEVICE WITH TITANIUM NITRIDE BOTTOM ELECTRODE AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME)

반도체 장치 제조 방법(METHOD FOR FABRICATING SEMICONDUCTOR DEVICE)

탄탈륨계 질화막을 이용한 반도체장치 제조 방법(METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE USING TANTALUM BASE NITRIDE)